福建掩模招标采购

...激光直写设备采购项目 采购内容：桌面式三维激光直写设备 采购数量：1套 主要功能或目标：无掩模单层和多层微结构图案光刻写入 需满足的要求：能满足微透镜、微纳光栅、光子晶体和渐变周期或者高度的微光学结构直写，特征尺寸100nm量级，能实现多层结构直写 160.0000002023年12月无17导热仪采购项目 采购内容：导热仪 采购数量：1套 主要功能或目标：在...( 掩模 在正文中 )

...英寸曝光波长365nm分辨力1-1.2μm （胶厚2μm 的正胶)对准精度±0.8 μm掩模样片整体运动范围X:15mm;Y:15mm掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸、7英寸样片尺寸：直径 φ15mm-- φ 150mm （各种不规则片)厚度0.1mm-6mm具备真空接触曝×S硬接触曝×S压力接触曝×Wr及接近式曝×四种功能照明a均匀性Y 6%（φ150m...( 掩模 在正文中 )

...英寸曝光波长365nm分辨力1-1.2μm （胶厚2μm 的正胶)对准精度±0.8 μm掩模样片整体运动范围X:15mm;Y:15mm掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸、7英寸样片尺寸：直径 φ15mm-- φ 150mm （各种不规则片)厚度0.1mm-6mm具备真空接触曝×S硬接触曝×S压力接触曝×Wr及接近式曝×四种功能照明a均匀性Y 6%（φ150m...( 掩模 在正文中 )

...英寸曝光波长365nm分辨力1-1.2μm （胶厚2μm 的正胶)对准精度±0.8 μm掩模样片整体运动范围X:15mm;Y:15mm掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸、7英寸样片尺寸：直径 φ15mm-- φ 150mm （各种不规则片)厚度0.1mm-6mm具备真空接触曝×S硬接触曝×S压力接触曝×Wr及接近式曝×四种功能照明a均匀性Y 6%（φ150m...( 掩模 在正文中 )

...英寸曝光波长365nm分辨力1-1.2μm （胶厚2μm 的正胶)对准精度±0.8 μm掩模样片整体运动范围X:15mm;Y:15mm掩模尺寸:3英寸、4英寸、5英寸、7英寸样片尺寸：直径 φ15mm-- φ 150mm （各种不规则片)厚度0.1mm-6mm具备真空接触曝×S硬接触曝×S压力接触曝×Wr及接近式曝×四种功能照明a均匀性Y 6%（φ150m...( 掩模 在正文中 )

...）：96*54*80 光机型号：德州仪器TI-1080P 成型机理：数字面曝光(DLP)无掩模紫外光刻技术 分辨率：1980*1080 紫外光波长：405nm（可选385nm） 光机单个像素点尺寸：光机单个像素点尺寸：50μm，光机电动升降：支持，可变精度（手动调焦）：45-55μm 紫外输出功率：2.0W，最大面功率：30mW/cm2 光机畸变：0.1%...( 掩模 在正文中 )

...单价 ￥ 450000.00 技术参数及配置要求 1.1 性能指标 1.★基于 DMD的无掩模光刻系统 2.★曝光波长: 385nm (LED) 3.准直波长: 590nm (LED) 4.搭配2个物镜(2.5X/10X)，配备磁性“快速释放”系统 5.1X的单次写入区域高达10.56mm × 5.94mm 6.完整的拼接写入区域可达110mm ×110 m...( 掩模 在正文中 )

...7 嘉庚创新实验室 激光直写 [A020599]其他机械设备 用于批量大面积，高精度，无掩模加工纳米/微米级尺寸结构； 技术参数：1、最大支持8英寸并向下兼容；2、最小加工精度300 nm；3、支持硅片、玻璃、石英、金属等基底；4、支持灰度加工 600 2022-11 无 8 嘉庚创新实验室 超快激光玻璃切割裂片机 [A032103]电子工业专用生产设备...( 掩模 在正文中 )