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| **** | 建设单位代码类型:|
| ****0105MA617T2J4R | 建设单位法人:文彪 |
| 何彦 | 建设单位所在行政区划:**市**区 |
| ****园区水江组团 |
| CMP抛光材料一期建设项目 | 项目代码:|
| 建设性质: | |
| 2021版本:057-玻璃制造;玻璃制品制造 | 行业类别(国民经济代码):C3042-C3042-特种玻璃制造 |
| 建设地点: | **市**区 水江组团 |
| 经度:107.2813 纬度: 29.26557 | ****机关:****环境局 |
| 环评批复时间: | 2023-04-04 |
| 渝〔**〕20号 | 本工程排污许可证编号:**** |
| 2024-05-17 | 项目实际总投资(万元):30000 |
| 300 | 运营单位名称:**** |
| ****0105MA617T2J4R | 验收监测(调查)报告编制机构名称:**环科源****公司 |
| ****0105MA5U5P5431 | 验收监测单位:****公司 |
| ****0000MA5URW5J57 | 竣工时间:2024-04-24 |
| 2024-05-18 | 调试结束时间:2024-06-20 |
| 2024-07-01 | 验收报告公开结束时间:2024-07-26 |
| 验收报告公开载体: | https://www.****.com/content/86504.html |
| 项目属于** | 实际建设情况:项目属于** |
| 未发生变化 | 是否属于重大变动:|
| 微晶玻璃车间位于厂区中部,主要布置纳米微晶晶砖生产线,设计年产纳米微晶晶砖3000万片/年。 | 实际建设情况:微晶玻璃车间位于厂区中部,主要布置纳米微晶晶砖生产线,设计年产纳米微晶晶砖3000万片/年。 |
| 无变化 | 是否属于重大变动:|
| 研磨端面:对切割后的产品端面通过研磨去除切割的锯纹并加工到设定尺寸。操作流程为:产品装夹-程序选定-机台运行-运行结束取出产品。与研磨大平面一样,需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对研磨过程进行冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1:10),起到降温及湿式作业的目的。冲洗水进入设备旁的槽体沉淀后上清液进行循环使用,每10天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生切割废水W3-3;砂轮属于消耗品,定期产生废砂轮S3-1。由于研磨在密闭设备内,且研磨过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 线切割:使用多线切割机,对研磨后的厚片用高速线切割成溥片,切割线高速的往返运行,对切割工件进行磨削加工从而实现切割。操作流程为:粘料-上料-程序设定-机台运行-运行结束取出产品-下片。在切割过程中,需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对开料过程进行冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1:10),冲洗水进入设备旁的沉淀池沉淀后上清液进行循环使用,每30天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生切割废水W3-4;锯条属于消耗品,定期产生废锯条S3-2;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 CNC修外形:线切割后的产品用CNC数控机床加工至设定的尺寸。将工件的几何数据和工艺数据等加工信息按规定的代码和格式编制成数控加工程序,并用适当的方法将加工程序输入数控系统。数控系统对输入的加工程序进行数据处理,输出各种信息和指令,控制机床各部分按规定有序地动作。****运行处于不断地计算、输出、反馈等控制过程中,从而保证刀具和工件之间相对位置的准确性。操作流程为:上料-选择加工程序-机台运行-运行结束取出产品。需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对加工过程冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1:15),冲洗水进入设备旁的沉淀池沉淀后上清液进行循环使用,每30天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生研磨废水W3-5;砂轮棒和底座属于消耗品,定期产生废砂轮棒S3-1、废底座S3-2;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 粗磨:采用双面研磨机将线切割后面的切割线纹去除。上、下研磨盘作相反方向转动,在一定的压力转速的作用下工件在载体内作既公转又自转的运动,达到研磨效果。操作流程为:上料-选择加工程序-机台运行-运行结束取出产品。需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对粗磨过程进行冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1: 5),冲洗水进入设备旁的槽体沉淀后上清液进行循环使用,每30天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生研磨废水W3-6;研磨垫属于消耗品,定期产生废研磨垫S3-4;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 抛光:采用双面抛光机将产品不透明状态抛光成透明状态。上、下抛光盘作相反方向转动,在一定的压力转速的作用下工件在载体内作既公转又自转的运动。需加入氧化铈抛光粉、自来水配制成冲洗水对抛光过程进行冲洗(抛光粉、自来水配比约1:20),冲洗水循环使用,定期补充自来水;每天工作完后对机台进行清洗,将产生清洗废水W3-7;抛光垫、牙板属于消耗品,定期产生废抛光垫S3-5、废牙板S3-6;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 超声波冲洗:采用全自动清洗机将抛光后的产品表面进行超声波清洗干净。其中,设备内存在两种清洗方式,产品首先进入第一、二级槽体内,分别使用柠檬酸、清洗剂与纯水配制成3%~5%左右的浓度清洗液进行清洗,冲洗液进行循环使用,每天更换槽体内的冲洗水产生清洗废水W3-8;然后再进入第三级的溢流清洗槽,使用纯水进行溢流清洗,产生溢流清洗废水W3-9;静电膜属于消耗品,定期产生废静电膜S3-7。 检验及包装:对生产的产品进行抽样检测,可能产生残次品S3-8。对合格品进行包装、入库外售。 | 实际建设情况:纳米微晶玻璃生产线的研磨平面、研磨端面和线切割等工序的取消,导致原料进入厂区尺寸发生变化,主要体现来料厚度上面的区别,其余工艺无变化 CNC修外形:线切割后的产品用CNC数控机床加工至设定的尺寸。将工件的几何数据和工艺数据等加工信息按规定的代码和格式编制成数控加工程序,并用适当的方法将加工程序输入数控系统。数控系统对输入的加工程序进行数据处理,输出各种信息和指令,控制机床各部分按规定有序地动作。****运行处于不断地计算、输出、反馈等控制过程中,从而保证刀具和工件之间相对位置的准确性。操作流程为:上料-选择加工程序-机台运行-运行结束取出产品。需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对加工过程冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1:15),冲洗水进入设备旁的沉淀池沉淀后上清液进行循环使用,每30天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生研磨废水W3-5;砂轮棒和底座属于消耗品,定期产生废砂轮棒S3-1、废底座S3-2;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 粗磨:采用双面研磨机将线切割后面的切割线纹去除。上、下研磨盘作相反方向转动,在一定的压力转速的作用下工件在载体内作既公转又自转的运动,达到研磨效果。操作流程为:上料-选择加工程序-机台运行-运行结束取出产品。需加入玻璃加工液、自来水配制成冲洗水对粗磨过程进行冲洗(玻璃加工液、自来水配比约1: 5),冲洗水进入设备旁的槽体沉淀后上清液进行循环使用,每30天对槽体内的冲洗水进行更换,将产生研磨废水W3-6;研磨垫属于消耗品,定期产生废研磨垫S3-4;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 抛光:采用双面抛光机将产品不透明状态抛光成透明状态。上、下抛光盘作相反方向转动,在一定的压力转速的作用下工件在载体内作既公转又自转的运动。需加入氧化铈抛光粉、自来水配制成冲洗水对抛光过程进行冲洗(抛光粉、自来水配比约1:20),冲洗水循环使用,定期补充自来水;每天工作完后对机台进行清洗,将产生清洗废水W3-7;抛光垫、牙板属于消耗品,定期产生废抛光垫S3-5、废牙板S3-6;过程为湿式作业,基本不会产生粉尘。 超声波冲洗:采用全自动清洗机将抛光后的产品表面进行超声波清洗干净。其中,设备内存在两种清洗方式,产品首先进入第一、二级槽体内,分别使用柠檬酸、清洗剂与纯水配制成3%~5%左右的浓度清洗液进行清洗,冲洗液进行循环使用,每天更换槽体内的冲洗水产生清洗废水W3-8;然后再进入第三级的溢流清洗槽,使用纯水进行溢流清洗,产生溢流清洗废水W3-9;静电膜属于消耗品,定期产生废静电膜S3-7。 检验及包装:对生产的产品进行抽样检测,可能产生残次品S3-8。对合格品进行包装、入库外售。 |
| 纳米微晶玻璃生产线的研磨平面、研磨端面和线切割等工序的取消,导致原料进入厂区尺寸发生变化,主要体现来料厚度上面的区别,其余工艺无变化。 | 是否属于重大变动:|
| 废水:拟建项目废水主要为生产废水、生活污水。其中,纳米微晶玻璃生产线排水、地面清洁****处理站,位于微晶玻璃车间北侧,设计处理规模为80m3/d,采用“初沉+调节池+pH调节+混凝+絮凝+中心沉淀+一体化气浮”处理。****实验室排水、生活污水进入办公楼下的生化池处理(其中食堂废水需隔油预处理,设计处理规模50m3/d)。****处理站排水、生化池排水通过管道汇总后进入全厂废水总排放口(DW001),废水达到《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准后(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015)),排入园区2#污水处理厂深度处理,****水厂处理达到《化工园区主要水污染物排放标准》(DB50/457-2012)中污染物排放标准限值,该标准中未规定的SS指标执行《污水综合排放标准》(GB8978-1996)中一级标准后,最终排入鱼泉河。 噪声:选用低噪声设备,高噪声设备采取减振、隔声、绿化、消声等措施。 固废:**1座标准的危险废物暂存间,位于危险化学品库房内,占地面积为50m2; **一般固废暂存间1座,位于污水处理的辅助生产楼内,占地面积50m2。 生活垃圾经分类收集后,交当地环卫部门统一处理。 | 实际建设情况:废水:拟建项目废水主要为生产废水、生活污水。其中,纳米微晶玻璃生产线排水、地面清洁****处理站,位于微晶玻璃车间北侧,设计处理规模为80m3/d,采用“初沉+调节池+pH调节+混凝+絮凝+中心沉淀+一体化气浮”处理。****实验室排水、生活污水进入办公楼下的生化池处理(其中食堂废水需隔油预处理,设计处理规模50m3/d)。****处理站排水、生化池排水通过管道汇总后进入全厂废水总排放口(DW001),废水达到《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准后(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015)),排入园区2#污水处理厂深度处理,****水厂处理达到《化工园区主要水污染物排放标准》(DB50/457-2012)中污染物排放标准限值,该标准中未规定的SS指标执行《污水综合排放标准》(GB8978-1996)中一级标准后,最终排入鱼泉河。 噪声:选用低噪声设备,高噪声设备采取减振、隔声、绿化、消声等措施。 固废:一般工业固废暂存间位置从东北侧变更为西北侧,建筑面积从50m2变更为800m2;危险废物暂存间位置厂区北侧(危险化学品库内部)变更为厂区西北侧(一般工业固废暂存间旁),建筑面积从50m2变更为57.5m2;生活垃圾处理方式未发生变化。 |
| 险废物暂存间和一般工业固废暂存间位置及占面积均发生变化位置及占地面积发生变化 | 是否属于重大变动:|
| ①危险化学品库(危险化学品暂存间、危废暂存间、一般化学品暂存间)周边应设置环形截流沟、收集井等紧急切断收集设施。 ②抛光垫1车间、抛光垫2车间、危险化学品仓库房、废水处理站、危废暂存间等涉液区域采取重点防渗措施,重点防渗区的防渗性能应与6.0m厚黏土层(渗透系数1.0×10-7cm/s)等效。 ③危险化学品库内的各个化学品应当分区、分类妥善储存,禁止不同性质的化学品混存。加强化学品储存管理,桶装液态化学品暂存过程底部应当设置托盘,有效防止泄漏扩散,加强储存间通风。 ④化学品储存区应当设置火灾报警装置。 ⑤项目各类危险废物应按照相关要求妥善处置,防止二次污染。 | 实际建设情况:①危险化学品库(危险化学品暂存间、危废暂存间)周边设置截流沟、收集井等紧急切断收集设施; ②危险化学品仓库房、废水处理站等涉液区域采取重点防渗措施,危废暂存间采用铺设2mm的HDPE膜等防渗措施,以上防渗措施均满足环评要求的重点防渗区与6.0m厚黏土层(渗透系数1.0×10-7cm/s)等效; ③危险化学品库内的各个化学品已按照环评要求进行分区、分类存放,同时仓库内部设置收集沟和收集井(2*1.5m3)等风险防范措施; ④危险化学品库内已设置火灾报警装置; ⑤危险废物暂存危险废物暂存间,同时与**百亿再生****公司签订危险废物处置协议。 ⑥已建1座有效容积为1021m3事故池。 |
| 风险防范措施得到加强,**1座事故池 | 是否属于重大变动:|
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | |
| 0 | 1.79 | 2.09 | 0 | 0 | 1.79 | 1.79 | |
| 0 | 0.22 | 0.26 | 0 | 0 | 0.22 | 0.22 | |
| 0 | 0.01 | 0.011 | 0 | 0 | 0.01 | 0.01 | |
| 0 | 0.448 | 0.46 | 0 | 0 | 0.448 | 0.448 | |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
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| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | 0 | / |
| 1 | 生产废水处理设施 | 生产废水与生活废水在废水总排放口达《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入 城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015))) | 已建1座处理能力为80m3/d的生产废水处理设施 | 监测期间,在废水总排放口达《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入 城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015))) | |
| 2 | 生化池 | 生产废水与生活废水在废水总排放口《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入 城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015))) | 已建1座50m3/d的生化池 | 在废水总排放口《污水综合排放标准》(GB8978-1996)三级标准(氨氮、总氮、总磷参照执行《污水排入 城镇下水道水质标准》(GB/T 31962-2015))) |
| 1 | 噪声污染防治措施 | 《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB 12348-2008)表1工业企业厂界环境噪声排放限值中3类标准限值。 | 已建成 | 东侧、西侧、南侧、北侧厂界的昼间、夜间检测结果均符合《工业企业厂界环境噪声排放标准》(GB 12348-2008)表1工业企业厂界环境噪声排放限值中3类标准限值。 |
| 1 | **一般固废暂存间1座,位于污水处理的辅助生产楼内,占地面积50m2。**1座标准的危险废物暂存间,位于危险化学品库房内,占地面积为50m2。 | 一般工业固废占地面积增大至800m2,位置发生变化;危废暂存间占地面积增大至57.5m2,位置发生变化 |
| 1 | ①危险化学品库(危险化学品暂存间、危废暂存间、一般化学品暂存间)周边应设置环形截流沟、收集井等紧急切断收集设施。 ②抛光垫1车间、抛光垫2车间、危险化学品仓库房、废水处理站、危废暂存间等涉液区域采取重点防渗措施,重点防渗区的防渗性能应与6.0m厚黏土层(渗透系数1.0×10-7cm/s)等效。 ③危险化学品库内的各个化学品应当分区、分类妥善储存,禁止不同性质的化学品混存。加强化学品储存管理,桶装液态化学品暂存过程底部应当设置托盘,有效防止泄漏扩散,加强储存间通风。 ④化学品储存区应当设置火灾报警装置。 ⑤项目各类危险废物应按照相关要求妥善处置,防止二次污染。 | ①危险化学品库(危险化学品暂存间、危废暂存间)周边设置截流沟、收集井等紧急切断收集设施; ②危险化学品仓库房、废水处理站等涉液区域采取重点防渗措施,危废暂存间采用铺设2mm的HDPE膜等防渗措施,以上防渗措施均满足环评要求的重点防渗区与6.0m厚黏土层(渗透系数1.0×10-7cm/s)等效; ③危险化学品库内的各个化学品已按照环评要求进行分区、分类存放,同时仓库内部设置收集沟和收集井(2*1.5m3)等风险防范措施; ④危险化学品库内已设置火灾报警装置; ⑤危险废物暂存危险废物暂存间,同时与**百亿再生****公司签订危险废物处置协议。 ⑥已建1座有效容积为1021m3事故池。 |
| 不涉及 | 验收阶段落实情况:不涉及 |
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| 不涉及 | 验收阶段落实情况:不涉及 |
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| 不涉及 | 验收阶段落实情况:不涉及 |
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| 不涉及 | 验收阶段落实情况:不涉及 |
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| 不涉及 | 验收阶段落实情况:不涉及 |
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| 无 | 验收阶段落实情况:无 |
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| 1 | 未按环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定要求建设或落实环境保护设施,或者环境保护设施未能与主体工程同时投产使用 |
| 2 | 污染物排放不符合国家和地方相关标准、环境影响报告书(表)及其审批部门审批决定或者主要污染物总量指标控制要求 |
| 3 | 环境影响报告书(表)经批准后,该建设项目的性质、规模、地点、采用的生产工艺或者防治污染、防止生态破坏的措施发生重大变动,建设单位未重新报批环境影响报告书(表)或环境影响报告书(表)未经批准 |
| 4 | 建设过程中造成重大环境污染未治理完成,或者造成重大生态破坏未恢复 |
| 5 | 纳入排污许可管理的建设项目,无证排污或不按证排污 |
| 6 | 分期建设、分期投入生产或者使用的建设项目,其环境保护设施防治环境污染和生态破坏的能力不能满足主体工程需要 |
| 7 | 建设单位因该建设项目违反国家和地方环境保护法律法规受到处罚,被责令改正,尚未改正完成 |
| 8 | 验收报告的基础资料数据明显不实,内容存在重大缺项、遗漏,或者验收结论不明确、不合理 |
| 9 | 其他环境保护法律法规规章等规定不得通过环境保护验收 |
| 不存在上述情况 | |
| 验收结论 | 合格 |