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| 多靶位超高真空磁控溅射镀膜系统 | **众谱科技 | 598000.00 | 按行业标准提供服务(提供本地化安装调试及售后服务) | 设备名称:多靶位超高真空磁控溅射镀膜系统 型号:CKJ-450型 品牌:**众谱科技 1、可实现全自动控制镀膜,整个系统使用触摸屏和PLC全自动控制;具有手机远程控制功能;抽真空和镀膜都有一键模式; 2、利用机械泵和分子泵级连,可以实现镀膜室的极限真空度为:≤3×10-5Pa (经烘烤除气后); 3、*磁控靶:超高真空磁控靶,可满足10-8Pa真空条件; 4、*膜厚均匀性:保证单次镀膜均匀性优于±2%; 5、*薄膜表面粗糙度:小于1纳米; 6、*所有靶枪可共****中心,并可****中心距离0~30mm可调,程序控制调整; 7、*压控仪自动调控工作压强,溅射控压时间:小于30秒; 8、样品库放置样品数量:6个,可通过多工位样品库实现自动样品交接,更换样品; 9、镀膜全程自动控制,输入镀膜参数,仪器自动抽真空并完成溅射过程,无需调节阀门等; 10、样品大升降:可在0-50mm范围内由程序控制调整;样品小升降:可在0-20mm范围内由程序控制调整。 11、交货期:2周 12、质保期:1年 | 1.0 | CKJ-450 | 598000.00 | **** |