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【分散采购备案单】原子干涉仪光机结构
招标详情
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项目概况
| 项目名称 | 原子干涉仪光机结构 | 项目编号 | **** |
| 开始时间 | 2026-05-20 19:35 | 结束时间 | 2026-05-25 19:35 |
| 供应商资格要求 | 参照《****政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额（元） | 160000.00 |
| 采购方式 | 竞价 | ||
采购货物信息列表
| 1 | 原子干涉仪光机结构 | 1 | 套 | 160000 | ||
| 技术参数 | 一、总体要求 （1）根据真空腔体结构，完成敏感单元光机结构设计及加工； （2）根据敏感单元结构，完成磁屏蔽结构设计及加工； （3）根据光路原理图，完成一套激光光路模块的光机结构设计 及加工。 二、敏感单元光机结构设计、加工要求 完成以下光机模块的结构设计及加工： 激光准直输出模块 1 光机结构设计与加工，数量 2 套 激光准直输出模块 2 光机结构设计与加工，数量 2 套 激光准直输出模块 3 光机结构设计与加工，数量 1 套 激光传输模块光机结构设计与加工，数量 2 套 荧光收集模块光机结构设计与加工，数量 2 套 光电探测器等外围设备安装及调试结构设计与加工，数量 1 套 线缆、光纤走位及连接结构设计与加工，数量 1 套 外壳、底板及支撑结构设计与加工，数量 1 套 具体需求如下文所述。 1、激光准直输出模块 123 激光准直输出模块 1~3 的功能示意图如图 1（图见附件） 所示，光纤输出的 发散光通过 45 度反射镜和透镜组转换为准直光束。在准直光束出射 端面安装一组波片，调节输出光束的偏振。 图 1 冷却光准直输出模块光路示意图（左）和结构示意图 关键技术要求如下： （1）可通过 45 度反射镜精确调节输出光束的指向，调节精度到 达 10urad；带锁紧结构，可固定反射镜的偏转角度。 （2）透镜组与光纤端面的距离可调，调节精度优于 0.2mm，调 节范围达到±2mm。 （3）波片组的波片可旋转调节；带锁紧结构，保证波片的光轴 方向稳定性优于±0.1°。 （4）激光准直输出模块 1、2、3 所使用的透镜和波片参数不同， 需要分别设置匹配的光机结构。 2、激光传输模块 激光传输模块如图 2 （图见附件）所示，入射的准直光束经过 1/4 波片和 0 度 反射镜反射后被原路返回。0 度反射镜具有一定的透过率，透过的光 通过透镜聚焦在光电探测器 PD 上。 图 2 冷却光反射模块光路示意图 具体要求如下： （1）平凸透镜与 PD 端面的距离可调，调节精度优于 0.2mm， 调节范围达到±2mm。 3、荧光收集模块 荧光收集模块如图 3 （图见附件）所示，原子发射的荧光通过一组透镜聚焦在 光电探测器 PD 上。 图 3 荧光收集模块光路示意图 具体要求如下： （1）透镜组的透镜之间的间距可调，调节精度优于 0.1mm。 （2）透镜组与 PD 之间的间距可调，调节精度优于 0.1mm。 4、光电探测器等外围设备安装及调试结构 设计光电探测器等外围设备的安装和调试结构，要求能精确调节 其水平姿态。 5、线缆、光纤走位及连接结构 根据总体情况，设计合适的电缆、光纤走位及连接结构。 6、外壳、底板及支撑结构 根据总体情况，设计合适的外壳、底板及支撑结构，防尘防水等 级不低于 IP54。 三、三维补偿磁场及磁屏蔽结构设计、加工要求 完成以下结构设计及加工： 磁场补偿线圈结构设计与加工，数量 1 套 多层磁屏蔽结构设计与加工，数量 1 套 1、三维磁场补偿线圈 根据真空腔体结构及上述光机模块的结构，设计合适的三维磁场 补偿线圈及支撑结构件。要求三个方向的补偿磁场线圈都相对于真空 腔体中心对称安装。 2、多层磁屏蔽结构 （1）采用三层磁屏蔽结构； （2）磁屏蔽之间的间隙不小于 2mm； （3）单层磁屏蔽厚度不超过 0.5mm； （4）磁屏蔽的屏蔽效果：MOT 中心 20mm×20mm×40mm（长× 宽×高）区域屏蔽优于 30dB； （5）磁屏蔽材料：1J85 坡莫合金; （6）配消磁设备，DC 消磁系数达到 500（DC-10Hz，典型值）。 四、光路模块光机结构设计、加工要求 设计并加工的如图 4 （图见附件）所示光路的光机结构件，主要包括以下功能： （1）输入激光 1/2/3/4 均通过单模保偏光纤输入，再经过分束、 移频、合束等操作后产生输出激光 1/2/3/4，并通过单模保偏光纤输出。 （2）所有激光的波长均为 780.24nm。 图 4 光路模块示意图 （3）所有光学元器件安装在同一块光路底板，底板尺寸不超过 25cm×25cm（长×宽）。 （4）光路传输过程光斑到底板的距离保持不变。 （5）设计成双层结构，中间填充减震、保温材料；采用橡胶圈 密封。 五、加工参数和性能要求 1、光机结构件加工精度：优于±0.02mm； 2、光机结构件表面平整度：优于 0.02mm； 3、光机结构件材料：6061-T6 铝合金; 4、光机结构件表面处理：喷砂/阳极氧化。 六、时间节点 1、5 月 30 日完成结构设计 2、7 月 30 日完成产品生产和交付。 七、其它要求 1、乙方需向甲方提供检验报告、合格证、装箱单。 2、乙方交付的产品需清洗干净，不留油渍等污渍及加工残渣。 3、乙方需严格遵守保密要求，未经甲方同意，不得擅自向第三 方提供与此项目相关的任何信息。 | |||||
| 相关材料 | 原子干涉仪光机结构设计及加工技术规格书.pdf | |||||
附件（1）
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