项目名称：反应离子刻蚀机(用于介质薄膜)
日期：2012年12月04日
招标编号：****
****受买方委托对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标，于2012年12月04日在中国国际招标网公告。 本次招标采用传统招标 方式，现邀请合格投标人参加投标。
1、招标产品的名称、数量及主要技术参数：
01原子力显微镜 1套
02卧式低压化学气相沉积炉管检控系统 1套
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04热场发射扫描电子显微镜1套
05反应离子式深硅刻蚀系统1套
06反应离子刻蚀机(用于金属薄膜) 1套
07反应离子刻蚀机(用于介质薄膜) 1套
08等离子增强化学气相沉积系统1套
09多靶磁控溅射镀膜系统1套
10电子束蒸发镀膜系统1套

210mm全自动可旋转样品台，样品高度可达到20mm以上。

2、招标文件售价：500.00
3、购买招标文件时间：2012-12-4至2012-12-21
4、购买招标文件地点：**市**南路268****广场1号楼502室
5、投标截止时间和开标时间：2012-12-24 09:00
6、中标情况将在中国国际招标网公示。
7、开标地点：****广场1号楼6楼议室
地 址：**市**南路268号
邮编：200010
电子邮箱：****@hotmail.com
电话： 86-21-****6622*5021
传真：86-21-****1613
联系人：胡玮
开户银行（人民币）：****分行虹桥支行
开户银行（美元）：****分行虹桥支行
帐 号（人民币）：020********04789
帐 号（美 元）：020********00137