序号

项目名称

建设地点

建设单位

建设项目概况

公众参与情况

相关环保措施承诺

主要环境影响及预防或者减轻不良环境影响的对策和措施

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美新半导体年产6亿颗MEMS磁传感器生产线及加速度传感器工艺开发实验线项目

******管理委员会越**香积路和漫池路交界

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本项目用地面积45亩，总占地面积11718m2，总建筑面积37037m2，其中地上总建筑面积36237m2，地下总建筑面积800m2。项目将建设MEMS厂房、封测厂房、动力中心、化学品库、硅烷站、大宗气站及其他环保设施、办公生活设施等。

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企业承诺按环评落实环保治理措施

废气：淀积介质、介质刻蚀、金属刻蚀、清洗等工艺产生的酸性废气经碱液喷淋+除湿+活性炭装置处理后，通过15米高排气筒1#排放；光刻、湿法去胶、清洗、设备维护等工艺产生的有机废气经热氧+水洗装置处理后，通过15米高排气筒2#排放。

废水：1、项目实行雨、污分流制。清洗废水、喷淋废水、制****处理站处理后，全部回用于清洗用水，不外排。生活污水经化粪池预处理后纳管排放，最终经绍****公司集中处理后达标排放。

噪声：选用低噪声设备，采用必要的隔声降噪减振措施，加强设备维护保养，确保厂界噪声达标排放。

固体废物：生活垃圾经收集后由环卫部门统一清运处置。粉尘收尘收集后作为产品出售；危险废物委托有资质单位妥善处置。