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| 标的名称 | 提高单室沉积微晶硅基薄膜太阳电池效率的制备方法 | 项目编号 | **** |
| 挂牌开始时间 | 2023-01-20 | 挂牌截止时间 | 2026-01-01 |
| 专利所属地 | 中国 | 专利类型 | 发明专利 |
| 专利号 | 200****690345 | ||
| 授权日期 | 2014-04-02 | 到期时间 | 2029-05-27 |
| 应用领域 | 新材料；**与环境 | ||
| 简介 | 本发明在传统的微晶硅基（纳米硅基）薄膜太阳电池的ｐ／ｉ界面引入高晶化率的界面层来实现降低硼污染的影响，进而提高单室沉积微晶硅基（纳米硅基）薄膜太阳电池的光电转换效率。电池的类型针对本征ｉ层而言，即包括微晶硅基（微晶硅、微晶硅锗、微晶硅碳或微晶硅氧等）、也包括纳米硅基（纳米硅、纳米硅锗、纳米硅碳或纳米硅氧等）的薄膜太阳电池。此微晶硅基（纳米硅基）电池的类型即包括单结微晶硅基（纳米硅基）电池，也适用于由其构成的双结或三结叠层太阳电池。该方法不需增加新的设备改造投资成本，又降低了污染，同时有效提高电池效率。 | ||
| 拟转让/许可方式 | 拟交易底价 | 采用总付额内分期支付的方式，在合同生效后30日内支付第一批次5000元，后在每个会计年度截止前的30日内，分5批次支付，每次支付5000元。包括第一次在内总共支付6次，共计30000元。 | |
| 转让/许可方类型 | 认证名称 | **** | |
| 注册地址 | 注册资本 |
| 转让/许可范围 | 中国 | ||
| 受让方资格条件 | 无 | ||
| 保证金要求 | 无需交保证金 | ||
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