[BA202301110]高真空磁控溅射镀膜机设备采购项目备案公示公告(更正)

位置>千里马招标网> 招标中心> [BA202301110]高真空磁控溅射镀膜机设备采购项目备案公示公告(更正)

[BA202301110]高真空磁控溅射镀膜机设备采购项目备案公示公告(更正)

吉林-长春-长春市状态：结果

加入收藏

打印

导出为

更新时间:

2023年10月09日

招标单位:

立即查看

截止时间:

立即查看

招标编号:

立即查看

项目名称:

立即查看

代理机构:

立即查看

关键信息:

磁控溅射镀膜机

招标文件:

立即查看

下文中****为隐藏内容，仅对千里马会员用户开放，【注册/登录】后可查看内容详情

您尚未开通该权限！

咨询客服：400-688-2000，掌握更多商机线索！

[****]高真空磁控溅射镀膜机设备采购项目备案公示公告(更正)

发布时间：2023-10-09 15:05:25

采购信息项目编号项目名称经办人单位经办人预算金额成交金额成交供应商质保期联系地址付款方式供应商联系手机交货时间交货地址交货方式包装及运费验收方式售后服务要求采购材料

****	高真空磁控溅射镀膜机设备采购项目
****学院	王东
140000.00 人民币	140000.00 人民币
****	12 月
省-市-**区蒲河大道888号西十一区5号(5号)1楼34室	采购单位	****
货到验收合格办理相关手续后100%付款。
134****1559	成交单签订后10天内交货
省-市-区大街2699****大学前卫南区唐敖庆楼D区129
乙方免费将产品送达甲方用户单位指定地点。
由乙方免费提供及承担
以成交单为准，参考相关内容进行验收。验收程序以甲方职能部门规定为准。
验收合格后质保12个月，详细内容见附件。

明细清单采购品目品牌名称名称产地及生产商规格型号数量计量单位保修年限单价总价主要技术参数

其他电工、电子专用生产设备	**天德
高真空磁控溅射镀膜机	中国-****
TD-CK450	1
台	1 年
140000.00 人民币	140000.00 人民币
主要技术指标： 1. 设备主要配置： 1 磁控室 1.1 磁控室腔体 1台主溅射室真空腔体为内尺寸约400x400mm卧式圆形腔体，材质为高真空专业不锈钢，内外表喷丸，电解抛光处理。前后开门结构，真空室下方法兰接基片加热器及转架与基片挡板机构。门与腔体间采用胶圈密封。真空室侧边有一个CF150刀口法兰连接卧室-620型高性能分子泵。腔体周围有CF35法兰七个，一个连接CF35气动角阀、一个连接四芯引线法兰、一个连接电阻规管，一个连接金属电离规管。一个备用。上盖面有3个永磁靶位。腔体除大法兰密封口采用胶圈密封外，其余各口采用无氧铜垫圈密封。真空室壁带有匀气环。前后开门结构。 1.2 磁控靶 3台其中Ф2英寸圆形磁控溅射永磁靶射频和直流兼容，都可沿轴向在线（高真空工作环境下）手动移动，移动距离范围（相对于衬底）40～80mm，金属密封结构。靶安装有气动挡板。靶面尺寸Ф2英寸,水磁分离结构，靶面为铜材质，冷却效果好。在真空室内部分，可以手动调整摆头，摆头角度0～15度。磁控靶之间有隔板隔开，防止交叉污染。预留靶位上盖可单独拆卸，更换为PE靶头功能。 1.3 样品架一套单工位样品架。带有样品总挡板。可放置Ф80mm 样品一片。可以电动旋转，转速0～30转/分，连续可调。样品架边缘，自动样品挡板，样品加热温度最高800℃。 1.4 PLC一套韩国LG-PLC，控制真空系统，前级，机械泵，样品台旋转控制。样品运行控制，设备安全报警。 1.5 触摸屏+软件包 1套昆仑通泰，10寸触摸屏，彩屏，在屏幕在可以进行下列操作：真空系统，镀膜系统（不含溅射电源控制），样品架的旋转控制。压力控制。 2.设备主要技术指标： 2.1 溅射室极限真空度： 5×10-5pa 2.2 设备总体漏率：关机停泵12小时后，真空度优于3pa 2.3系统真空检漏漏率：≤5.0x10-8 Pa.l/S 2.4基片尺寸：Φ70mm 一片（可根据客户需求定制） 2.5靶到基片的手动可调间距：40～80mm 2.6基片加热器加热温度：800℃，控温精度±1℃ 2.7基片转速：0～30转/分连续可调 2.8质量流量控制器量程：（镀膜室）：100SCC