位置>千里马招标网> 招标中心> RIE反应离子刻蚀机(清设比选20240232号)采购公告
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RIE(略) | 项目编号清设比选(略)号 | |
(略)8:38:22 | 公告截止日期****-03-10 09:00:00 | |
清华大学 | 付款方式合同签订后50%,验收合格后50% | |
联系电话 | ||
到货时间要求 | 签订合同后3个工作日内 | |
¥ (略).00 | ||
**市清华大学 | ||
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 | ||
RIE反应离子刻蚀机 | 1 | 台 |
¥ (略).00 |
适用范围:采用RIE反应离子诱导激发方式,实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。适用于所有的基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀。具体包括:介电材料(SiO2、SiNx等)、硅基材料(Si,a-Si,poly Si)、III-V材料(GaAs、InP、GaN等)、溅射金属(Au、Pt、Ti、Ta、W等)、类金刚石(DLC) 技术参数: 1、PLC工控机控制,7寸彩色触摸屏互动操作界面,图形化操作界面显示,自动监测工艺参数状态,0~99配方程序,可存储、输出、追溯工艺数据,机器运行、停止提示。 2、手动、自动两种工作模式。 3、全真空管路系统采用316不锈钢材质。 4、采用防腐数字流量计控制,标配双路气体输送系统,可选多气路气体输送系统,可输入氧气、氩气、氮气、四氟化碳、氢气或混合气等气体。 5、具备HEPA高效过滤气体返填吹扫功能。 6、人体功能学的60度倾角操作界面设计,操作方便,界面友好。 7、采用顶置真空仓,上开盖设计,下压式铰链开关方式。上置式360度水平取放样品设计。 8、最大处理直径200mm晶元硅片。 9、安全保护,仓门打开,自动关闭电源。 10、舱体内尺寸:H38xΦ260mm。 11、舱体容积:2L,最大处理尺寸:≤154mm 12、射频电源:13.56MHz,射频功率10-300W**可调。 13、电极:不锈钢气浴RIE电极,Φ200mm。 14、自动匹配器。 15、RIE刻蚀方式。 16、气体控制:质量流量计(MFC)(标配双路,可选多路)流量范围0-500SCCM(可调)。 |
12个月 |
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