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磁控溅射生长设备
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4000000.00
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***********公司企业信息
****2024年5至12月政府采购意向-磁控溅射生长设备 详细情况
| 磁控溅射生长设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年5至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射生长设备 |
| 预算金额： | 400.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300-电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
高真空磁控溅射系统主要包括主腔室、样品台、磁控溅射靶枪等，其中主腔室可以实现5x10^-8 Torr的高真空，样品台可以实现最高850℃的加热，4英寸晶圆生长的薄膜均匀性达到了±2.5%。由于磁性隧道结的隧穿磁电阻需要极高的晶体质量、界面质量。利用此高真空磁控溅射系统，研究者可以实现磁性隧道结等器件结构的高质量生长。
|
| 预计采购时间： | 2024-08 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2024-04-18
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