光电子器件生产制造基地

审批
湖北-武汉
发布时间: 2024年04月22日
项目详情
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建筑工程施工许可证电子证照信息
工程名称 光****基地 建设地址 ****开发区东园西路以南、流芳大道以西
工程项目编号 **** 施工许可证电子证照编号 420********4190101
项目分类 房屋建筑工程 项目属地 -
建设单位 **** 建设单位代码 914********580844Y
建设单位项目负责人 何泽保 项目负责人证件号码 ****22197******50
计划开工日期 2024-04-20 计划竣工日期 2025-04-19
合同价格(万元) 8463.3698 总面积(平方米) 41375.72
合计地上面积(平方米) 34193.74 合计地下面积(平方米) 7181.98
发证机关 ****开发区****管理局 发证机关代码 ****0119MB1A001164
签发日期 ****0419 管理属地 -
建设规模 建设内容及规模:**厂房及配套设施,总建筑面积128922㎡,主要生产光电子模块、器件、系统集成光电设备等。本项目分两期建设,一期总建筑面积54782㎡,二期总建筑面积74140㎡。
参加单位信息
承担角色 单位名称 企业统一社会信用代码 负责人姓名 项目负责人证件号码
勘察 ****公司 912********2208451 王军 ****01196******17
设计 中国轻工业******公司 914********624991J 李东春 ****03196******19
施工 ******公司 ****0112MA4K47257W 付高雄 ****16199******10
监理 **澄茂****公司 ****0100MA49QGDL21 彭双华 ****23198******32
单体项目信息
单体名称 单体参数 单体其他参数
3#研发办公楼 地上面积10260.86平方米,地上层数9层,地下层数0层 10260.86
5#厂房 地上面积6493.76平方米,地上层数4层,地下层数0层 6493.76
2#厂房 地上面积5381.94平方米,地上层数4层,地下层数0层 5381.94
地下室 地下面积7181.98平方米,地上层数0层,地下层数1层 7181.98
4#厂房 地上面积6675.24平方米,地上层数4层,地下层数0层 6675.24
1#厂房 地上面积5381.94平方米,地上层数4层,地下层数0层 5381.94
温馨提示
1.该项目指提供国家及各省发改委、环保局、规划局、住建委等部门进行的项目审批信息及进展,属于前期项目。
2.根据该项目的描述,可依据自身条件进行选择和跟进,避免错过。
3.即使该项目已建设完毕或暂缓建设,也可继续跟踪,项目可能还有其他相关后续工程与服务。
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