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真空磁控溅射镀膜设备
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3000000.00
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***********公司企业信息
****2024年6月政府采购意向-真空磁控溅射镀膜设备 详细情况
| 真空磁控溅射镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年6月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 真空磁控溅射镀膜设备 |
| 预算金额： | 300.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2402 真空应用设备
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| 采购需求概况 ： |
能够实现8英寸基底的薄膜沉积，能制备厚度差异在±5%（8英寸）的硫系化合物、氧化物等材料的薄膜沉积。配备至少1个直流和1个射频电源，可以实现2个靶位的共溅射沉积。具有氩等离子体轰击，实现轻微刻蚀。本年度内到货并安装调试完毕。
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| 预计采购时间： | 2024-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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