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薄膜等离子快速消除机
招标详情
相关单位：
***********公司企业信息
（略）2024年6月政府采购意向-（略） 详细情况
| （略） | |
| 项目所在采购意向： | （略）2024年6月政府采购意向 |
| 采购单位： | （略） |
| 采购（略）： | （略） |
| 预算金额： | （略） |
| 采购品目： | （略） |
| 采购需求概况 ： | （略），1台，用于纳米至微米级的薄膜表面上指定区域深度的可控刻蚀，能够在薄膜表面形成纳微米级图案，并提供器件的工艺可靠性和稳定性分析。刻蚀功率：RF > 600 W，ICP > 2 kW，且连续可调；刻蚀速率： gt;10 nm/min，且连续可调；均匀性：8英寸范围内±5%；真空腔室整体漏率优于1 mTorr/min。具体要求详见采购文件。供货期：签订合同之日起，8个月货到指定地点并安装验收完毕。（包括供货、安装、调试、验收合格所需时间）。具体事宜由成交供货商按照采购人指定地点及时间安排要求执行。 |
| 预计采购时间： | （略） |
| 备注： | |
本次公开的采购意向是本单位政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。
招标进度跟踪
2024-05-09
招标预告
薄膜等离子快速消除机
当前信息
招标项目商机
2024-05-31
2024-05-31
2024-05-29
2024-05-27
招标预告
磁控薄膜沉积系统
2024-05-24
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2024-05-24
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2024-05-20
招标预告
上海交通大学崇明校区项目
2024-05-17
400-688-2000
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