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(略) | 1.0/套 | (略).0 | 普迪真空 | ALD-T100Q | 1、真空腔室:6061 铝阳极氧化处理,腔室内尺寸Φ2(略)mm;2、真空系统:双极旋片油泵,抽速(略)16 m3/h;(略):系统极限优5.0×10-(略),系统真空漏率小于 5*10-10 Pa.m3/s;4、样品台尺寸:4 英寸样品托,兼容 4 inch 及以下样品尺寸;5、样品台温度:4英寸内样品表面加热温度最高可达300℃,温度(略).5℃;(略):3路可加热至200℃的金属驱(略)量计控制前驱体源吹扫管道,分别吹扫金属前驱体源和水前驱体源管道;8、生长模式:连续和停留沉积模式选择;9、控制系统:PLC(略):50-60Hz,380VAC /20A交流电源;11、沉积非均匀性:在4inch硅片上,沉积500ycle氧化铝非均匀性<±1%;12、仪器尺寸:780mm x 750 mm x 1100 mm(长*宽*高);13、可沉积材料种类:SiO2、TiO2、SnO、FeO、CoO、NiO、Al2O3、ZnO、HfO2、ZrO2、MgO等 | 按行业标准提供服务 |