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【分散采购备案单】原子层沉积设备
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385000.00
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招标详情
【分散采购备案单】原子层沉积设备
发布日期：（略）
项目概况
| 项目名称 | 原子层沉积设备 | 项目编号 | BH（略） |
| 开始时间 | （略） 14:47 | 结束时间 | 2024-05-18 14:47 |
| 供应商资格要求 | 参照《中华人民**国政府采购法》第二十二条规定的资格条件。 | 预算金额（元） | （略）.00 |
| 采购方式 | 竞价 | ||
采购货物信息列表
| 1 | 原子（略） | 1 | 台 | （略） | ||
| 技术参数 | 1. 腔室：外热式水平流单（略）2. 样品台配有可拆卸片托，可放下最大 8 英寸晶圆； 3. 反应温度：最高 150℃，温度控制精度±1℃ 4. 2 路标准加热液态前驱体源，配置 swagelok 高温快速 ALD阀 （响应时间＜10ms）、手动阀、50ml 不锈钢源瓶，源瓶及管路加热 温度 RT-200℃，控制（略）5. 1 路常温源，配置 swagelok 快速 ALD 阀（响应（略））、 手动阀、50ml 不锈钢源瓶； 6. 含两路载气系统，全套 swagelok 管路+VCR 密封，前驱体源管路 具有在线清洗功能 7. 高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-2Torr，真空漏率＜ 5×10-7 Pa﹒L/S 8. 配置机械泵，额定抽速≥60m3/h 9. 真空（略），加热温度最高 500℃，控制精度±1℃，用 于吸附、分解未反应的前驱体源； 10. 进口压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过 滤网以及气动隔膜阀； 11. 高精度 PLC+工（略），满足高精度 ALD沉积需 求 12. 可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调 节温度、流（略），编辑并保存配方参数； 13. 多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保 安全性； 14. 沉积模式：连续模式、停流模式； 15. 人机界面：外挂式触摸屏，可自由选择悬停位置 16. 在 8英寸硅片上以厂家提供的工艺配方沉积 300 循环氧化锡， 以晶圆上至少 9 个均匀分散点进行膜厚测试，膜厚非均（略） | |||||
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