开启全网商机
登录/注册
广东中科半导体微纳制造技术研究院2024年05月至2024年06月政府采购意向
摘要信息
招标单位
点击查看
招标编号
点击查看
招标估价
12500000.00
招标联系人
点击查看
招标代理机构
点击查看
代理联系人
点击查看
报名截止时间
点击查看
投标截止时间
点击查看
关键信息
招标详情
相关单位：
***********公司企业信息
为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔（略）等有关规定，现将本单位（略）年06月采购意向公开如下：
| 1 | （略） | 标的名称：（略） 标的数量：1 主要功能或目标：气相刻蚀是一种干法释放的微电子制造刻蚀技术，这种刻（略），消除了传统湿法刻蚀过程中的粘附问题。 ①使用HF气（略），SiO2表（略）。这种工艺主要用来对SiO2的同向性刻蚀。②使用XeF2气体进行Si刻蚀，Si表面与XeF2反应生成SiF4分子，这种工艺主要用来对Si的各向同性刻蚀。 需满足的要求：①HF释放工艺要求：释放良率：MEMS结构需100%无黏附干法释放；刻蚀速率：悬臂结构刻蚀速率＞0.3 μm/min；空白暴露SiO2刻蚀＞0.1μm/min；片内均匀性：≤5% 1（悬臂结构：Si/SiO2复合薄膜；空白暴露SiO2：硅衬底Si/SiO2复合薄膜）；②XeF2释放工艺要求：释放良率：MEMS结构需100%无黏附干法释放；刻蚀速率：悬臂刻蚀＞3 μm/min； | 落实国家关项目于节能产品、环保标志产品、促进中小企业发展、残（略） | （略） | （略） | |
| 2 | （略） | 标的名称：（略） 标的数量：1 主要功能或目标：磁控溅射是一种常用的物理气相沉积（PVD）的方法，可在低沉积温度下，实现（略），所沉积的薄膜具有均匀性好、成分接近靶材成分等众多优点。 主要用于（略）靶材；可用于反应溅射。 需满足的要求：适用8英寸及以下尺寸晶圆；极限真空≤2E-5 Pa； 抽气速率：工艺腔从大气抽到5E-4Pa的时间≤30分钟；真空漏率≤6E-3Pa.L/s；最高加热温度≥500℃；工件盘最高转速≥20转/min，转速连续可调；镀膜均匀性：优于±3%（直径8英寸范围内）；批次间重复性：优于±2%；靶枪：每个溅射工艺腔室配置的数量≥4个；增强磁场靶枪：其中一个溅射工艺腔室配置数量≥2个。 | 落实国家关项目于节能产品、环保标志产品、促进中小（略） | 6,000,000.00 | 2024年06月 |
本次公开的（略），具体采购项（略）。
广东中科半导体微纳制造技术研究院
（略）
招标进度跟踪
2024-05-13
招标预告
广东中科半导体微纳制造技术研究院2024年05月至2024年06月政府采购意向
当前信息
招标项目商机
2024-05-23
招标预告
202405外延平台前台办公桌
2024-05-23
招标预告
202405器件部不锈钢货架2个
2024-05-09
2024-05-09
招标预告
202405加工平台不锈钢桌6张
2024-05-09
招标预告
202404器件部不锈钢货架3个
2024-04-29
招标预告
202404加工平台便携式计算机
2024-04-25
招标预告
202404综合办换鞋凳2张
2024-04-24
招标预告
202404综合办6箱打印纸
2024-04-22
招标预告
202404器件部空调3台
2024-04-20
400-688-2000
欢迎来电咨询～
