磁控溅射系统采购结果公告

发布时间: 2024年05月16日
摘要信息
中标单位
中标金额
中标单位联系人
招标单位
招标编号
招标估价
招标联系人
代理单位
代理单位联系人
关键信息
招标详情
相关单位:
***********公司企业信息
***********公司企业信息
中标信息
中标供应商: ****
选择理由: 总价最低,推荐成交
质疑投诉说明: 如有质疑,请在三个工作日内将质****学校采购管理部门,逾期不予受理。
项目名称 磁控溅射系统采购 项目编号 ****
项目编号 ****
公告发布日期 2024/05/11 15:26 公告截止日期 2024/05/14 15:26
公告截止日期 2024/05/14 15:26
采购单位 ****
联系人 中标后在我参与的项目中查看 联系手机 中标后在我参与的项目中查看
联系手机 中标后在我参与的项目中查看
是否本地化服务 是否需要踏勘
是否需要踏勘
踏勘联系人 踏勘联系电话
踏勘联系电话
踏勘地点 踏勘联系时间
踏勘联系时间
采购预算 ¥99,000.00 成交金额 ¥98,500.00
成交金额 ¥98,500.00
送货/施工/服务期限 2-3月
送货/施工/服务地址 **省**市**区太榆路339号****北区2号教学楼C101
售后服务 (1) 要求用户可以随时通过电话、电子邮件等方式与厂家维修人员联系。 (2) 在收到用户技术服务的通知后,要求厂家在3个小时内作出响应,8小时内提供解决方案。 (3) 如果通过电话、传真、电子邮件等手段不能解决问题,确认有必要派遣工程师到达用户现场的情况下,厂家需在3个工作日内派遣工程师到达用户现场。
付款条款 交货并验收合格后100%付款
其他说明

采购清单
1
采购内容 数量单位 分项报价
磁控溅射系统 1(套) ¥98,500.00
是否进口
品牌及型号 不限定品牌型号/
技术参数要求 1、真空极限:优于9.0×10-8 mbar(烘烤后) 2、基片:基片台有负偏压装置,可加 -200 V的负偏压,可实现对样品的刻蚀,改善样品的致密性等参数 3、溅射靶:4个2 inch圆形阴极,强磁场1 个,普磁场3 个,可开展Pt、Ta、SiO2、NiFe镀膜生长 4、气路系统:配置一路氩气质量流量计进气,实现溅射气压的调节 5、工作模式:向上溅射(基片台再腔室顶部,靶在腔室底部) 6、膜厚均匀性:溅射区域达4 inch,保证30mm×30mm区域均匀性3% 7、报警及保护:对靶、泵、电机缺水、过流过压、断路等异常情况进行监控报警并执行相应保护措施

招标进度跟踪
2024-05-16
中标通知
磁控溅射系统采购结果公告
当前信息
2024-05-11
招标项目商机
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