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高真空多靶磁控溅射镀膜机（XF-WSBX-2400161）采购公告

公告-招标公告

浙江 -杭州-杭州市

发布时间： 2024年05月23日

摘要信息

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投标截止时间

关键信息

磁控溅射镀膜机

招标详情

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式联系人联系电话签约时间要求到货时间要求预算总价发票要求含税要求送货要求安装要求收货地址供应商资质要求公告说明

高真空多靶磁控溅射镀膜机	****
2024-05-23 11:29:03	2024-05-30 10:00:00
****	货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额

	成交后60个工作日内
￥200000.00




********研究所
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单1

采购商品采购数量计量单位所属分类

高真空多靶磁控溅射镀膜机

台

金属喷涂设备

品牌型号预算单价技术参数及配置要求参考链接售后服务

￥ 200000.00

1.真空腔室；φ350×H350mm（实际以设计尺寸为主），SUS304优质不锈钢真空腔室，顶板焊水线； 2.真空系统；复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计； 3.真空极限；6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）; 4.设备升压率：≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa； 5.抽速；从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）； 6.基片台；基片台尺寸Φ120mm，最大样品尺寸小于Φ120mm；配有基片台挡板；旋转转速0～20转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源；配备水冷基片台（间接水冷）基片台在下。 7.溅射靶及电源；配置2套2英寸永磁共焦磁控（强磁）溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向下溅射；预留1只靶位，磁控靶配有气动挡板结构；工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从上向下溅射镀膜电源；直流脉冲溅射电源1kW，数字化控制及显示，1台；直流电源，数字化控制及显示，1台；脉冲偏压电源：-1kV，数字化控制及显示，1台； 8.工作气路系统；质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；N2，20sccm； 9.膜厚不均匀性；≤±5%（单靶镀膜，基片台Φ75mm范围内）； 10.控制方式；PLC+触摸屏控制； 11.报警及保护；对缺水进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；

服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后4小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;送货至******校区热能所B301实验室安装;

招标进度跟踪

2024-06-11

中标通知

高真空多靶磁控溅射镀膜机（XF-WSBX-2400161）成交结果公告

2024-05-23

招标公告

高真空多靶磁控溅射镀膜机（XF-WSBX-2400161）采购公告

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