高真空多靶磁控溅射镀膜机（XF-WSBX-2400161）采购公告

项目名称

高真空多靶磁控溅射镀膜机

项目编号

****

公告开始日期

2024-05-23 11:29:03

公告截止日期

2024-05-30 10:00:00

采购单位

****

付款方式

货到付款，甲方在到货验收后15日内向乙方一次性支付本项目的总额

联系人

成交后在我参与的项目中查看

联系电话

成交后在我参与的项目中查看

签约时间要求

成交后3个工作日内

到货时间要求

成交后60个工作日内

预算总价

￥ 200,000.00

收货地址

********研究所

供应商资质要求

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购商品

采购数量

计量单位

所属分类

高真空多靶磁控溅射镀膜机

1

台

金属喷涂设备

预算单价

￥ 200,000.00

技术参数及配置要求

1.真空腔室；φ350×H350mm（实际以设计尺寸为主），SUS304优质不锈钢真空腔室，顶板焊水线；
2.真空系统；复合分子泵+直联高速旋片式真空泵+高真空阀门+数显复合真空计；
3.真空极限；6.0×10-5Pa（设备空载，抽真空24小时）;
4.设备升压率：≤0.8Pa/h（12小时平均值）；设备保压：停泵12小时后，设备真空度≤10Pa；
5.抽速；从大气抽至5.0×10-3Pa≤15min（设备空载）；
6.基片台；基片台尺寸Φ120mm，最大样品尺寸小于Φ120mm；配有基片台挡板；旋转转速0～20转/分钟，可调可控；基片台与腔室绝缘设计，可加偏压电源；配备水冷基片台（间接水冷）基片台在下。
7.溅射靶及电源；配置2套2英寸永磁共焦磁控（强磁）溅射靶（靶角度、靶基距手动可调），向下溅射；预留1只靶位，磁控靶配有气动挡板结构；工作方式：各靶可独立/顺次/共同工作，采用磁控靶从上向下溅射镀膜
电源；直流脉冲溅射电源1kW，数字化控制及显示，1台；
直流电源， 数字化控制及显示，1台；
脉冲偏压电源：-1kV， 数字化控制及显示，1台；
8.工作气路系统；质量流量控制器及量程范围：Ar，100sccm；N2，20sccm；
9.膜厚不均匀性；≤±5%（单靶镀膜，基片台Φ75mm范围内）；
10.控制方式；PLC+触摸屏控制；
11.报警及保护；对缺水进行报警并执行相应保护措施；完善的逻辑程序互锁保护系统；

售后服务

服务网点:当地;电话支持:7x24小时;质保期:1年;服务时限:报修后4小时;销售资质:协议供货商;商品承诺:原厂全新未拆封正品;送货至******校区热能所B301实验室安装;