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低损伤复杂形貌刻蚀系统
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***********公司企业信息
****2024年6至12月政府采购意向-低损伤复杂形貌刻蚀系统 详细情况
| 低损伤复杂形貌刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年6至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 低损伤复杂形貌刻蚀系统 |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 ： |
高精度光栅的刻蚀，对半导体光电器件的研制具有重要意义。现有科研任务的研究中会涉及多种微纳尺寸芯片的研究，需要采用DFB、DBR等高精度光栅制备工艺。常规刻蚀设备无法满足特殊结构DFB、DBR光栅的制备，特别是具有高深宽比的图形结构。
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| 预计采购时间： | 2024-07 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2024-05-31
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