高真空电阻蒸发镀膜设备(GY202401949)采购公告

发布时间: 2024年06月12日
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项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
高真空电阻蒸发镀膜设备****
2024-06-12 15:04:132024-06-17 16:00:00
****货到验收合格后付款
签订合同后60天
¥300000.00
****

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件


采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
高真空电阻蒸发镀膜设备 1 电气物理设备
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 参考链接 售后服务
******公司
VZZ-400
¥ 300000.00
1) 真空腔室: Φ400×H500mm; 2) 真空极限:优于 2.5×10-5Pa; 3) 抽速:分子泵完全启动,抽至 4.0×10-4Pa≤15min; 4) 基片台尺寸:最大可镀基片尺寸/面积: 112×112mm,该范围内可装卡 15~25mm 方形 ITO/FTO 玻璃/硅片 16~25 片;样品台配有气动挡板,磁流体密封;样品台旋转:旋转速度 0-25 转/分连续可调,磁流体密封,光控定位,设定在前门中 心位置方便取样;样品掩膜:提供一块掩膜板(掩膜图案客户提供);样品台水冷: 采用基片台背板通冷却循环水强制水冷; 5) 蒸发源及电源:安装 4 组蒸发源,其中 3 组舟式/挂丝式金属蒸发源, 1 组束源炉式有机蒸发源;金属用蒸发电源: 2.2Kw 1 台;有机源用蒸发电源: 1 组温控型电源,最高加热温度 600℃; 6) 膜厚监控:采用薄膜沉积监控仪在线监测蒸镀速率、自控膜厚; 7) 控制方式: PLC 手自动控制,触摸屏操作; 8) 特别定制:掩膜板一块
服务网点:当地;质保期限:2年;响应期限:报修后24小时;

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2024-06-12
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