X射线光电子能谱仪

A****0405射线式分析仪器

X射线光电子能谱仪1台。主要用来对各类导电，非导电材料在多种形态下的表面几个原子层的化学组成、价态，深度剖析及成像、功函数特性的分析与表征，兼顾催化材料的准原位高温高压分析等。 技术要求及参数： 分析室-标准样品制备室-复杂样品制备室、微区XPS、平行成像XPS、ARXPS角分辨分析、离子散射谱ISS、同轴REELS反射电子能量损失谱、**极、UPS紫外光电子能谱分析、定制激光高温高压反应池套件、自动化五轴样品台、超高真空测量装置功能并配备实现这些功能的其他所需部件等。 1. 真空系统： 1.1包括配置：分析室-标准样品制备室-复杂样品制备室（超高真空交叉连接三室结构）；分析室：真空腔为纯μ金属制造，真空度≤7.0×10-10 mbar; 标准样品制备室和复杂样品制备室采用交叉对接，有效利用超高真空交叉连接避免复杂样品的污染风险，保持分析室长期较高真空度，确保测试灵敏度和可靠性。 1.2 烘烤系统：烘烤≤12小时并完成除气 2. 多功能样品停放台：轴向：5轴样品台。 3. X射线源： 3.1单色化光源的阳极靶可移动，在阳极靶更换前应可提供≥18个工作点使用 3.2 最优能量分辨率：对Ag3d5/2峰，半高宽≤0.43 eV； 3.3成像XPS：快速平行成像，对Ag3d5/2，线扫描的最佳空间分辨率≤1μm。 4. 能量分析器： 4.1 采谱能量分析器：外罩为纯μ金属制造；180°半球能量分析器 4.2 平均半径：≥150 mm 4.3能量分析器极性：双极性 5. 探测器：电子倍增器和微通道板探测器 6. 荷电中和系统： 二套荷电中和系统：1）磁透镜+同轴电子枪，2）离轴低能离子/电子枪 7. 离子散射谱ISS 8.同轴反射电子能量损失谱装置（REELS） 9. UPS紫外光电子能谱：He紫外光源；系统可以自动控制在分析时及深度分析过程中同时实现UPS、XPS和ISS测试。 10.离子枪系统 11.激光加热高温高压反应系统 11.1高温高压反应池必须独立外挂于样品制备室上，避免原位实验中引入气体或液体推进剂污染XPS分析室。 11.2 高温高压反应池不锈钢和惰性石英制造，可以作为封闭反应池或流动池，提供控压，控流速和混气的反应供气系统：最高温度1000℃，最大反应压力3MPa，涵盖温度和压力：1000℃@10bar，800℃@20bar，300℃@30bar。 11.3 控温方式：程序控温，控温精度优于1摄氏度，进气压力采用0-3MPa应力变送器读取。 11.4 加热方式：激光加热 11.5可使用气体：H2，02，H20，CO，CO2，CH4 等。 12.谱仪控制和数据处理系统 13.冷却循环水 14.不间断电源 15.耗材备件等