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材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
招标详情
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***********公司企业信息
材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
发布企业：****公司
部门：OU_104401_**飞翎电子
需求OU：OU_104401_**飞翎电子
发布时间：2024-07-16
部门：OU_104401_**飞翎电子
需求OU：OU_104401_**飞翎电子
发布时间：2024-07-16
1
寻源单号：SOU493********7472
寻源类型：买产品
需求截止时间：2024-07-22 23:59:59 标书代写
需求交付时间：2024-10-30
币种：CNY
联系人：孙*
联系方式：151****9277
邮箱：h*******@midea.com
所属大类：金属加工设备
税率：13%
材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
项目供货范围及数量：
| 序号 |
名称 |
技术参数 |
数量 |
备注 |
| 1 |
溅射样品台 |
1.样品台承载最大样品尺寸200mm×200mm； 2.样品台最高加热600°C，程序控温（温度控制柜可显示）； 3.样品台可自动旋转，转速连续可调，转速≥60rpm（速度控制柜可显示），基体配备独立自动开合挡板。 |
1套 |
|
| 2 |
真空系统 |
1.高真空分子泵（抽速不低于1200L/s）+机械泵+高真空插板阀结构； 2.镀膜室的极限真空可以达到10-5Pa； 3.真空测量系统范围：1.0x105-1.0x10-5Pa（压强控制柜可显示）。 |
1套 |
|
| 3 |
气路系统 |
1.三路进气（氮气一路，氩气两路）； 2.采用闭环控制恒压控制系统，保证镀膜室工作气压稳定。 |
1套 |
40L高纯氩气2瓶，40L高纯氮气2瓶 |
| 4 |
靶枪 |
1.要求4英寸磁控溅射靶3支； 2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。 |
1套 |
高纯（99.9%以上）铝、铜、铬、镍靶材各3个 |
| 5 |
溅射电源 |
1.直流电源配3台（0~500W可调）、射频电源1台（0~500W可调）、直流脉冲偏压电源1台，电源支持系统设置镀膜工艺参数； 2.靶角度可调，每支靶配镀立自动挡板。 |
1套 |
|
| 6 |
溅射室（真空腔体） |
1.满足靶材与基体放置以及与真空系统匹配； 2. 腔体材质：SUS304不锈钢，侧开门方式，包含4英寸真空观察窗2个； 3. |
1套 |
|
| 7 |
控制系统 |
1.采用PLC+触摸屏自动控制系统，可实时设定镀膜工艺参数，包括真空度、镀膜功率、样品台温度； 2.可实现自动抽气、自动泄气、自动程序设定； 3.配套循环制冷水机1台，为设备部件提供冷却保护。 |
1套 |
对供应商要求
行业
规模
注册资金（万元）
企业所在地
供货区域
代理资质的品牌
交期（日）
质保时间（月）
公司成立年限（年）
|
50万元以上
|
[**省]
|
3年以上
|
其他要求
招标进度跟踪
2024-07-16
招标公告
材料电辅助加工平台项目（三靶材磁控溅射真空镀膜）
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