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low-k介质沉积设备
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2500000.00
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相关单位：
***********公司企业信息
****2024年8至11月政府采购意向-low-k介质沉积设备 详细情况
| low-k介质沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年8至11月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | low-k介质沉积设备 |
| 预算金额： | 250.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****2401 真空获得设备
|
| 采购需求概况 ： |
****拟采购low-k介质沉积设备一套，要求：1. 极限真空低于5.0E-5Pa，恢复真空15分钟之内达到2E-3Pa；2. 配置电子枪数量≥1，能够蒸SiO2、Al2O3、MgF2等镀膜材料；3. 射频辅助等离子源1套，离子流密度分布均匀；4. 石英晶体膜厚控制系统1套 ；5. 光学膜厚仪1套，监控波长范围350-1100nm，波長精度≤±1nm；基底最高加热温度：≥350℃，均匀性≤10℃。质保期1年。
|
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2024-12-11
2024-11-27
2024-11-05
2024-11-05
2024-07-19
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