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光源-掩模协同优化专用仿真平台
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***********公司企业信息
****2024年10至12月政府采购意向-光源-掩模协同优化专用仿真平台 详细情况
| 光源-掩模协同优化专用仿真平台 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 光源-掩模协同优化专用仿真平台 |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0303-应用软件
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| 采购需求概况 ： |
采购标的名称：光源-掩模协同优化专用仿真平台 采购标的需实现的主要功能：该平台用于支持尖端光刻工艺开发, 面向半导体制造商光刻技术研发，它既可以方便地用于开发新光刻工艺，也能在设计，掩膜板和成像等各层面深度优化现有工艺。用于搭建仿真光刻工艺和分辨率增强技术的光刻软件仿真平台，可用先进快速的模型来精确反震出版图设计通过光刻供以后在晶圆上产生的实际信息，来支撑更小节点的计算光刻仿真研究。 采购标的数量：1套 采购标的需满足的质量：平台能对OPC修正后的版图进行仿真验证，质量要求满足现有使用标准。 还应包含以下调试培训服务： 1平台的安装和调试 ****公司能提供的平台版本的最新稳定版本，或在告知并得到同意的情况下，**的开发版本 2培训平台成功启动后，提供示例项目，演示平台功能，并开展软件使用的培训。
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| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2024-07-27
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