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| RIE刻蚀设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2024年9月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | RIE刻蚀设备 |
| 预算金额: | 122.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0600-非金属矿物切削加工设备
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| 采购需求概况 : |
1. 样品最大尺寸:最大8寸 2. 射频功率:13.56Mhz, 30-300W,自动匹配,反射功率小于5W 3.工作压力范围:推荐2-30Pa 4. 基座水冷,配水冷机,20~25摄氏度,控制精度±0.1℃ 5.工艺气体:5路工艺气体,CF4/CHF3/SF6/O2/Ar,带MFC 6.反应室漏率:<1×10-8Pam3/sec(出厂时He检漏仪检测) 7. 极限真空: < 3×10-4Pa 8.反应室排气速度:从大气压到1*10-2 Pa的时间<5 min 9. 反应室漏率(保压):< 3.3Pa/30min 10.刻蚀速度:> 50nm/min@ 8” SiO2 on Si wafer 11.刻蚀均匀性:< ±5% (8”,去边5mm,5点测量)
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| 预计采购时间: | 2024-09 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写