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| 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 铪基铁电薄膜原子层沉积系统 |
| 预算金额: | 350.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
拟购铪基铁电薄膜原子层沉积系统1套。 主要技术指标: 1、反应腔兼容8英寸以下的衬底,工艺温度为室温至500℃; 2、配备6条的前驱体源管路,3路常温液态源系统,3路加热源系统,管路最高加热温度300℃; 3、配备预真空系统; 4、配置1套氧气和臭氧气体供给管路; 5、沉积HfO2 (TEMAHf +H2O),8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%,沉积ZrO2 (TEMAZr +H2O),8英寸内薄膜厚度不均匀性≤2%。( 1sigma, 边缘去除5mm, 薄膜厚度采用椭偏仪测试)
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| 预计采购时间: | 2024-10 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写