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高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统
招标详情
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***********公司企业信息
****2024 10（至）10月 政府采购意向-高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 详细情况
| 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024 10（至）10月 政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高真空双室磁控溅射薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 100.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
本次采购的设备将用于制备金属纳米结 构的玻璃薄膜
|
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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