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反应离子刻蚀机 (XJD2024091900017) 采购公告

公告-招标公告

陕西 -咸阳

发布时间： 2024年09月19日

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反应离子刻蚀机 (****) 采购公告

发布时间：2024-09-19 16:06:54

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式签约时间要求到货时间要求预算总价币种收货地址供应商资质要求

反应离子刻蚀机	****
2024-09-19 16:06:54	2024-09-23 12:00:00
****	货到安装、调试、验收合格后，付全款。
发布竞价结果后7天内签订合同	发布竞价结果后7天内送达
	人民币
省市区**
无

采购清单 1

采购商品采购数量计量单位附件

反应离子刻蚀机

1.00

无

品牌型号预算单价规格参数售后服务

创世威纳

无

1、主要功能设备刻蚀材料广泛，包括并不限于单晶硅、非晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、TaN、Ta、Ti、W、Mo、聚合物等。 2、主要技术指标 2.1腔体尺寸：Φ300mm*H300mm，经氧化处理的铝质桶形卧式结构，上盖自动开闭。 2.2极限真空度：≤5.0×10-4Pa； 2.3刻蚀室系统漏率：5×10-7Pa.l/s； 2.4刻蚀室静态升压：系统停泵关机后12小时后，真空度≤5Pa 2.5系统充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气抽至5×10-3Pa时间小于20min。 2.6射频阴极尺寸：Φ200mm。 2.7刻蚀均匀性：≤±5%（Φ6英寸） 2.8主要工艺气体配置：SF6、CHF3、CF4、O2、Ar、N2（视具体刻蚀工艺） 2.9电源配置：13.56MHz，600W，自动匹配 2.10自动压力控制系统：包含。 2.11刻蚀距离自动调节范围：60mm-120mm，调节精度：1mm 2.12水冷工作台温度：-10℃～室温 2.13控制方式：基于PLC及工控机的全自动、半自动控制方式，包含安全报警系统。 3、主要配置 3.1耐氟基气体腐蚀的真空刻蚀腔体，一体化机架、辅助设施，1套 3.2复合分子泵，抽速600L/s，1台 3.3机械泵，抽速8L/，1台 3.3超高真空电动调节插板阀1台 3.4真空测量系统，一高两低，1套 3.5自动压力控制系统，含薄膜规，1套 3.6射频电源及自动匹配器：600W，1套 3.7质量流量控制器：6台 3.8工艺气路：6条 3.9静音空气压缩机1台 3.10冷却循环水机1台 3.11工作台冷却水机1台

按行业标准提供服务，质保期12个月。