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等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）
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3600000.00
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***********公司企业信息
****2024年10至1月政府采购意向-等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD） 详细情况
| 等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD） | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10至1月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD） |
| 预算金额： | 360.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300 电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
拟采购等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD），1台套。要求能够实现SiO2、SiN、SiON等介质薄膜的沉积，具有双频电源，具有工艺腔室和传送腔室，衬底尺寸要求8英寸向下兼容。质保时间1年。
|
| 预计采购时间： | 2025-01 |
| 备注： |
详情见招标文件。
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-07-14
2025-05-13
2025-04-21
2025-01-25
2025-01-08
2025-01-03
2024-12-27
2024-09-20
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