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原子层沉积设备
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4300000.00
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***********公司企业信息
****2024年10月政府采购意向-原子层沉积设备 详细情况
| 原子层沉积设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 原子层沉积设备 |
| 预算金额： | 430.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300 电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
原子层沉积设备主要用于沉积出薄膜材料，例如Ⅱ-Ⅵ化合物、Ⅱ-Ⅵ基TFEL磷光材料、Ⅲ-V化合物、氮(碳)化物、半导体/介电材料、氧化物介电层、其他**材料、单质材料。 原子层沉积设备主要由腔体、气体管路、加热前驱源系统、真空系统、预备腔等几部分组成。原子层沉积系统（ALD）是半导体器件、半导体材料的制备及集成电路工艺的基础性必备设备，主要用于生长金属氧化物，目前已被广泛的应用于微电子、物理、化学、材料、信息、生物和医学等多个学科领域。本项目根据科研需求计划采购2台原子层沉积设备。
|
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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