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低温等离子体介质沉积系统
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***********公司企业信息
****2024年10月政府采购意向-低温等离子体介质沉积系统 详细情况
| 低温等离子体介质沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 低温等离子体介质沉积系统 |
| 预算金额： | 480.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300 电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
生长速度≥8 nm/min，生长温度≤100℃，生长薄膜应力≤300 Mpa，薄膜均匀度（薄膜差异±5%），标配8路：SiH4、NH3、N2O、N2、O2、CF4、Ar、He流量可调，真空计（100mTorr），分子泵抽速≥1300L/s，抽真空 30 分钟以内，压力达到 lt; 1E-5 mbar，本底真空： lt; 1E-6 mbar。
|
| 预计采购时间： | 2024-10 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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2024-09-23
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