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| 电子束光刻机 | |
| 项目所在采购意向: | ****2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 电子束光刻机 |
| 预算金额: | 1500.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0503工艺试验机
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| 采购需求概况 : |
拟购设备可用于纳米器件加工,该设备最大曝光区域为6英寸;集成高精度的激光干涉工作台,可进行多写场的自动拼接,完成大面积纳米结构的制备;自动化程度高,自动进出样、自动进行聚焦、像散、写场畸变调节,实现大面积高自动化快速曝光;集成温度屏蔽罩,减小实验室的建设和改造成本。拟购设备需满足以下主要技术规格:1. 采用肖特基热场发射电子束源,加速电压不低于50kV。2. 束电流范围为~300 pA到40 nA。3. 图像发生器扫描频率为50MHz。
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| 预计采购时间: | 2024-11 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写