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高真空磁控溅射镀膜设备 (XJD2024101100001) 采购公告

公告-招标公告

陕西 -西安

发布时间： 2024年10月11日

摘要信息

招标单位

招标编号

招标估价

招标联系人

招标代理机构

代理联系人

报名截止时间

投标截止时间

关键信息

磁控溅射镀膜设备

招标详情

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相关单位：

***********公司企业信息

高真空磁控溅射镀膜设备 (****) 采购公告

发布时间：2024-10-11 09:21:55

项目名称项目编号公告开始日期公告截止日期采购单位付款方式签约时间要求到货时间要求预算总价币种收货地址供应商资质要求

高真空磁控溅射镀膜设备	****
2024-10-11 09:21:55	2024-10-14 12:00:00
****	货到安装、调试、验收合格后，付全款。
发布竞价结果后7天内签订合同	合同签订后30天内送达
	人民币
省市区**
无

采购清单 1

采购商品采购数量计量单位附件

高真空磁控溅射镀膜设备

1.00

套

无

品牌型号预算单价规格参数售后服务

微纳真空

VJC-300

规格参数信息尽量详细： 1) 真空腔室：304不锈钢，L×W×H：330×330×400mm（精确尺寸以设计为准）；前后双开门，真空室内表面抛光至镜面，配一套防污镜面隔板； 2) 真空系统：复合分子泵（抽速：700L/s）+直联旋片泵（抽速：9L/s）组成的大抽速、准无油真空系统，超高真空电动闸板阀；全量程数显复合真空计； 3) 真空极限：≤5.0×10-5Pa（3.8×10-7Torr）； 4) 抽速：从大气抽至10-4Pa≤20min； 5) 基片台：抽屉式结构，最大可镀4英寸（Φ100mm）1片或者均布其它规格小片；基片台旋转，转速0～25rpm连续可调，光控定位；基片台衬底加热：室温～600℃可调可控；基片台负偏压：-800V； 6) 溅射靶：3只2inch圆形平面靶，可单靶轮流/多靶聚焦共溅射； 7) 溅射电源：1台1000VA直流溅射电源；2台300VA射频电源，频率13.56MHz，自动匹配； 8) 速率和膜厚监控：采用膜厚监控仪，镀膜过程中实时监测溅射速率，监控膜厚；厚度监测范围1～9999，分辨率1；速率监测范围0.1～9999.9/s，分辨率0.1； 9) 气路系统：三路工艺气体MFC控制，量程范围为0～50SCCM\0～30SCCM\0～30SCCM； 10) 水冷系统：水冷部件有分子泵、溅射靶及旋转密封磁流体；配高精度冷却循环水机1台； 11) 控制方式：采用PLC+触摸屏控制； 12) 报警及保护：对分子泵、溅射靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警并执行相应保护措施；完善的程序互锁、完备的防误操作设计及保护。

1) 产品质保期为2年；质保期内设备的维修免费（人为损坏因素除外）。 2) 本公司在接到故障通知2小时内给予解答；对于设备故障，公司在接到故障通知后48小时内到达现场。