开启全网商机
登录/注册
磁控溅射系统采购项目
摘要信息
招标单位
点击查看
招标编号
点击查看
招标估价
1350000.00
招标联系人
点击查看
招标代理机构
点击查看
代理联系人
点击查看
报名截止时间
点击查看
投标截止时间
点击查看
关键信息
招标详情
下文中****为隐藏内容，仅对千里马会员开放，如需查看完整内容请
「注册/登录」或 拨打咨询热线：
400-688-2000
相关单位：
***********公司企业信息
****2024年12月政府采购意向-磁控溅射系统采购项目 详细情况
| 磁控溅射系统采购项目 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 磁控溅射系统采购项目 |
| 预算金额： | 135.000000万元(人民币) |
| 采购品目： | |
| 采购需求概况 ： |
采购内容:磁控溅射系统；主要功能或目标:主要功能：1. 用于制备：Au、Ag、 Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化铝、氧化钛、氧化锆、ITO、AZO、氮化钽、氮化钛等。2. 多靶材倾 斜共溅射的方式，可沉积混合物/化合物薄膜。3. 在溅射过程 中加入氧、氮或其它活性气体,可沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜。4. 设备简单易于控制、镀膜面积大、薄膜附着力强，尤其适合高熔点和低蒸汽压的材料。5.磁控溅射技术是工业镀膜的主要技术之一，易于科研成果转化，是新技术向工业领域推广的最经济有效的方法之一。 应用范围：磁控溅射系统能完成功能薄膜材料的制备，使原来单一的薄膜材料制备扩展到可以制备复合膜和多层膜，同时，可以选择性的制备金属薄膜和氧化物薄膜。以其专业的薄膜制备功能，及针对性强的特点，对我们进行功能材料研究具有绝对重要的作用。对于我们该设备的购置意义重大，势在必行。购买该设备无疑对我院的教学和科研具有重要的促进作用，为我校进一步稳定和引进高层次人才搭建先进的科研平台，创造良好的科研条件。****实验室的建设起到了积极的推动作用；需满足的要求:所提供产品满足采购清单要求，不得缺项；所提供产品技术参数及配置满足本项目相关需求。
|
| 预计采购时间： | 2024-12 |
| 备注： |
无
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2024-10-11
招标预告
磁控溅射系统采购项目
当前信息
招标项目商机
暂无推荐数据
400-688-2000
欢迎来电咨询～
