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| 高功率非晶态材料沉积系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2024年11月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 高功率非晶态材料沉积系统 |
| 预算金额: | 131.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
设备主要参数要求:主要技术指标:极限真空度≤10-6 Pa;分子泵抽气速率≥600 L/s;真空漏率≤10-8 PaL/s;靶材尺寸和数量:2英寸、6只;溅射功率:直流电源数量4台、功率≥500W,射频电源数量2台、功率≥1000W,要求搭载负偏压;样品台可加热温度:25-800℃,控温精度≤ 1 度,可在0-30转/分连续可调;控制精度:薄膜均匀性优于±3%;系统需配有薄膜厚度实时监测仪和三路流量控制计,可通氩、氧、氮三路气体。
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| 预计采购时间: | 2024-11 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写