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| 高通量脉冲激光沉积系统 | |
| 项目所在采购意向: | ****2024年12月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 高通量脉冲激光沉积系统 |
| 预算金额: | 550.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****2402真空应用设备
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| 采购需求概况 : |
拟建设系统是在衬底加热的条件下,实现一定范围氧压氛围内多元复杂氧化物薄膜的生长、原位质量监控与编程可控的薄膜高通量生长。主要涉及的参数包括背底真空、高温下背底真空、氧气氛围下的压强可控范围、基片温度范围、升温速率、反射式电子衍射使用压强范围、靶材数量、靶间距、激光能量密度等。 需要包含如下主系统和配件 沉积腔体程控系统 1套 多靶材操作系统 1套 衬底加热系统 1套 反射式高能电子衍射仪 1套 加载互锁传送真空室 1套 准分子激光器与配套光路 1套 臭氧发生器 1套 一维掩膜板装置 1套
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| 预计采购时间: | 2024-12 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写