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高温高真空薄膜沉积系统
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6800000.00
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***********公司企业信息
****2024年10至12月政府采购意向-高温高真空薄膜沉积系统 详细情况
| 高温高真空薄膜沉积系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2024年10至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 高温高真空薄膜沉积系统 |
| 预算金额： | 680.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
用于实现高质量的氧化物、氮化物及多元金属/化合物薄膜的制备，工艺腔极限真空满足低于5E-8Torr，基片加热温度能达到800℃的能力，能达到三路工艺气体且控制精度不高于读数的±0.5%;带传片LoadLock;配置样品反溅射和离子源系统，以实际公告为准。
|
| 预计采购时间： | 2024-11 |
| 备注： |
详见项目详情
|
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2024-10-25
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