磁控溅射设备(清采比选20241380号)采购公告

发布时间: 2024年10月28日
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项目名称 项目编号 公告开始日期 公告截止日期 采购单位 付款方式 联系人 联系电话 签约时间要求 到货时间要求 预算总价 发票要求 含税要求 送货要求 安装要求 收货地址 供应商资质要求 公告说明
磁控溅射设备****
2024-10-28 16:04:312024-10-31 17:00:00
****合同签订后70%,验收合格后30%
签订合同后3个工作日内
¥ 240000.00
**市****

符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件

采购清单index
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
磁控溅射设备 1
品牌 型号 预算单价 技术参数及配置要求 参考链接 售后服务
¥ 240000.00
磁控溅射系统:1套 含1)磁控靶:4英寸永磁靶1套,预留一个4寸靶位; 2)磁控靶电源:射频电源(500W)1台;3)溅距:靶与样品距离80~180mm手动连续可调,并有调位距离指示;4)隔离:靶配有屏蔽罩,以避免靶材之间的交叉污染。样品台系统:可升降,可旋转(采用步进电机联动,转速0~20转/分连续可调);配气系统:1套;可用于纳米级单层及多层功能膜—硬质膜、金属膜、半导体膜和介质膜等的制备,并且具有较好的均匀性。
12个月
招标进度跟踪
2024-10-28
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