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低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）评标结果公示公告(1)
招标详情
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400-688-2000
项目编号： ****
公告类型： 评标公示
截止时间： 2024-11-04 23:59:00
招标机构： ****
招标地区： **省
项目名称：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标项目编号：****
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：****
招标人：****
开标时间：2024-10-22 14:00
公示开始时间：2024-10-31 14:16
评标公示截止时间：2024-11-04 23:59
中标候选人名单：
招标项目编号：****
招标范围：低应力高致密薄膜沉积设备（ICPCVD）
招标机构：****
招标人：****
开标时间：2024-10-22 14:00
公示开始时间：2024-10-31 14:16
评标公示截止时间：2024-11-04 23:59
中标候选人名单：
| 1 | Shintec Equipment Co., Limited | Oxford Instruments Nanotechnology Tools Limited， trading as Oxford Instruments Plasma Technology | 英国 |
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