招标详情
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400-688-2000
项目名称
| 磁控溅射系统 | 项目编号
**** |
公告开始日期
| 2024-11-25 12:47:41 | 公告截止日期
2024-11-28 14:00:00 |
采购单位
| ****(**) | 付款方式
合同签订后15个工作日内预付70%,设备到货验收合格后30% |
联系人
| 联系电话
|
签约时间要求
| 到货时间要求
签约后90个工作日内 |
预算总价
| ¥900000.00 |
发票要求
|
含税要求
|
送货要求
|
安装要求
|
收货地址
| ****(**) |
供应商资质要求
| 符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件 |
公告说明
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采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
| 磁控溅射系统 |
1 |
台 |
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品牌
| 普迪真空 |
型号
|
预算单价
| ¥ 900000.00 |
技术参数及配置要求
| 1.镀膜室极限真空:≤8×10-6 Pa; 2.抽速:大气后抽气至 8×10-4 Pa≤30min; 3.系统漏率:≤2×10-8 Pa.l/S(以氦质谱检漏仪测试指标考核); 4.系统保压:系统抽至高真空后停泵关机保压12小时后真空度≤1 Pa; 5.基片加热:衬底最高加热温度800 ℃; 6.溅射尺寸:衬底基片最大6英寸,兼容4英寸、2英寸、Φ45mm、Φ30mm,以及小尺寸方形片。基片旋转速度:0~30 rpm连续可调; 7.溅射靶枪共4套,其中顶部垂直安装1套2 inch靶枪,3套3 inch靶枪倾斜安装,实现共焦溅射; 8.均匀性:6英寸基片镀膜区均匀性优于±5%; 9.气体流量控制:3路进气,氩气氧气氮气分别为200/50/50 sccm。 |
参考链接
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售后服务
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附件(2)
采购联系方式.docx下载预览
网上竞价需求书_磁控溅射.doc下载预览