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| 高真空热蒸发镀膜机 | 浅蓝纳米 | 199000.00 | 197500.00 | 现场安装、调试、用户培训与保修一年 | (1)蒸发室极限真空度: 5×10-5pa (2)蒸发室从大气开始抽气,30分钟能达到5×10-4Pa (充氮气) (3)设备总体漏率:关机停泵12小时后,真空度优于8Pa (4)系统真空检漏漏率:≤5.0x10-8 Pa.l/S (5)基片尺寸:最大100mm 向下兼容 (6)基片转速:0~35转/分,公转、自传连续可调。 (7)膜厚探头1只. (8)金属源4只,最高温度1600度 (9)膜厚不均匀性 Ф100mm≤±5%;(镀铝膜层) (10)根据客户要求提供对应规格的掩膜版 (11)真空腔体为内尺寸约550×550×550mm,前后开门真空室,能和1200+双小腔手套箱配合使用,材质为高真空专业SUS304不锈钢,内外表喷丸,电解抛光处理,腔体周围有CF35法兰,可连接CF35气动角阀、四芯引线法兰、电阻规管、金属电离规管、蒸发源挡板等。 (12)PLC+10寸触屏,控制前级,机械泵,样品台旋转控制。样品运行控制,蒸发源挡板,模厚控制系统设备,安全报警(可实现抽真空、镀膜至停止真空全过程自动)。 (13)13)机械泵 1台,抽速9L/S;1200L分子泵 1套;抽速1200L/S,CF200气动插板阀 1套;通径CF200. | 1.0 | QS-EV4 | 197500.00 | **** |