(AXJ202400140)原子层沉积系统统一采购结果公告

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原子层沉积系统

品牌：普迪

<="" br=""> ">1. 一、设备组成和基本要求 1、外热式反应腔体（对标Vecco S100） 2、样品尺寸：可放置100mm*100mm方片及以下尺寸 3、3 路前驱体源系统（包括2路金属源和1路水源） 4、高性能真空系统和残余前驱体源处理热阱 5、自动控制沉积系统和工艺压力实时检测显示 二、技术指标： 1、ALD反应腔体结构 a.腔室：外热式单腔腔室，加热结构在真空室外，反应腔室维护保养无需拆卸腔室加热器或样品台加热器； b.样品台配有可拆卸片托，可放下最大100mm*100mm方片及以下尺寸； *c.反应温度：最高150℃,温度控制精度±1℃。 2、ALD前驱体源系统 *a．2路标准加热前驱体源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动隔膜阀和50 mL不锈钢源瓶，源瓶及管路加热温度室温至200 ℃,控制精度±1℃; *b.1 路水源，配置Swagelok高温快速ALD阀（响应时间＜10 ms）、手动球阀和50 mL不锈钢源瓶； c.含两路载气系统，全套管路+VCR密封，前驱体源管路具有在线清洗功能； 3、ALD真空系统 *a．高性能真空系统，整机极限真空＜5×10-3Torr，真空漏率＜5×10-7Pa﹒L/s； b．配置机械泵，额定抽速≥40 m3/h； c.真空泵前级配置热阱，加热温度最高600℃, 控制精度±1℃,用于吸附、分解未反应的前驱体源； d.压力传感器（真空计）,真空计前设有保护真空计的高效过滤网，沉积过程中可以实时监测显示腔室压力的变化。 4、ALD主机： a. 高精度PLC+4U工控机+显示器沉积自动控制系统，满足原子层沉积工艺的要求； b.可视化的操作界面，实时显示系统各部分运行状态，可方便的调节温度、流量、脉冲时间等参数，编辑并保存配方参数； c.多用户权限分配，软硬件互锁，异常报警、紧急停机等功能确保安全性； d.沉积模式：连续模式、停流模式； e.人机界面：外置移动支架显示器操作。 5、ALD工艺指标 a. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化铝，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±1%为合格； b. 在 4 英 寸 硅 晶 圆 上 以 厂 家 提 供 的 工 艺 配 方 沉 积300cycle氧化锡，以晶圆上至少9 个均匀分散点（去边5mm）进行膜厚测试，膜厚非均匀性≤±2%为合格。 配置与规格： 1、吹扫流量计：2路N2吹扫质量流量计，流量计控制精度为满量程的1%； 2、控制硬件：PLC+4U工控机+显示器操作，具有压缩空气欠压报警功能可防止失压导致的 CVD反应引起系统严重污染以及防温度失控硬件保护功能，保障ALD仪器运行的安全性； 3、自动控制软件：可以用软件在计算机上设定薄膜沉积条件及工艺参数，能全自动运行， 并可以显示系统运行中的各个参数；控制设备的各个单元包括真空泵、加热温度、气体流量、 沉积压强以及配方参数运行状态等；控制软件能够记录阀门开关次数和累计运行次数； 4、电源：50-60Hz，功率12KW，380VAC交流电源； 5、1年免费质保期，自验收之日起计算。提供完善的技术支持与售后服务，在接到买方报修 通知后2小时内给予答复，4小时内能够到达现场提供服务。保修期外的维修不收人工费，更换部件只收成本费。 本项目报价为包干价格，签订合同后30日内供货，质保年限最低为1年，学校进行数量验收，达到要求后供货方支付25%履约保证金，需方支付100%合同金额，待验收完成后支付20%履约保证金，余下5%为质保金，1年后无遗留问题支付。需方不组织统一现场踏勘，请各供应商自行前往现场踏勘并充分了解项目情况、运输道路、安装空间及环境、装卸限制及任何其它足以影响报价的情况，任何因忽视或误解项目情况而导致的索赔或交货期**申请将不获批准。无论供应商是否踏勘过现场，均被认为在递交投标文件之前已经踏勘现场，对本合同项目的风险和义务已经十分了解，并在其投标文件中已充分考虑了现场和环境条件。供应商需自行负责在踏勘现场中所发生的人员伤亡和财产损失，现场踏勘所发生的费用由供应商承担

按行业标准提供服务

数量：1 单价：325000.00(元)

325000.00(元)

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