西安工业大学射频电源采购项目

发布时间: 2024年12月16日
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****2025年01月政府采购意向-****射频电源采购项目 详细情况
****射频电源采购项目
项目所在采购意向: ****2025年01月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: ****射频电源采购项目
预算金额: 81.500000万元(人民币)
采购品目:
采购需求概况 :
采购内容:射频电源;主要功能或目标:5KW,40.68MHz电源 1.输出功率:5000W,可选功率范围: 1W ~ 正常输出功率; 2.电压驻波比(VSWR)接近理想匹配状态,设备可输出其全部标称功率;电压驻波比在失配状态时(VSWR3.0 : 1:),设备可输出其全部标称功率的60%;电压驻波比在极端不匹配时(VSWR接近无限时)输出功率(正向功率)大于标称功率的20%; 3.最大反射功率: 1000W,标称负载阻抗: 50Ω. 4.输出频率及误差: 40.68MHz ± 5%. 5通信接口:有同步接口;有模拟/数字,可选配 RS-232 / RS-485/ EtherCAT/DeviceNet 2KW,13.56MHz电源 1.功率输出范围:1W – 2000W,最大反射功率: 600 W 当电压驻波比(VSWR1:1~3:1),设备可输出其全部标称功率;当电压驻波比(VSWR)极端不匹配时(VSWR接近无限时),输出功率(正向功率)大于标称功率的60%; 2.输出频率: 13.56 MHz ± 0.005 %; 3.输出阻抗: 50 Ω;谐波: -40 dBc;杂波: -50 dBc;功率精度:±1W or ±1 %;浪涌:±1W;输出功率重复性:±2W or ±1 % 4.可选择运行常规模式和脉冲模式,常规模式:正向功率、负载功率、外部电压;脉冲模式:1 Hz–50 kHz,内部和外部信号源 频率捷变:±678 kHz(±5%)等;需满足的要求:可用于射频磁控溅射镀膜装置、射频离子源加工以及射频等离子体刻蚀加工专用设备中,磁控溅射源、离子源和等离子体源的射频电源提供等。。
预计采购时间: 2025-01
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

招标进度跟踪
2024-12-16
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西安工业大学射频电源采购项目
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