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| 采购单位: | **** |
| 项目名称: | 原子层沉积设备 |
| 预算金额(元): | 2,196,000.000 |
| 采购品目: | 真空应用设备 |
| 采购需求概况: | 原子层沉积设备是一种先进的薄膜沉积仪器,其核心功能在于实现沉积参数(包括厚度、成份和结构)的高度可控。通过交替引入前驱体并化学吸附反应,设备能在原子级别上逐层构建薄膜,确保所制备的薄膜具有很高的纯度和均匀性。该设备广泛应用于半导体、纳米技术和光学等领域,如半导体器件的制造、纳米结构材料的制备以及光学薄膜的沉积等。其优势在于沉积过程自限制、互补性强,能确保薄膜的均匀性和一致性,同时支持多种材料的沉积,满足不同应用领域的需求。 |
| 预计采购时间: | 2025-1 |
| 联系人: | 缪老师 |
| 联系电话: | 188****5863 |
| 备注: | 无 |