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离轴射频偏置磁控溅射
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5000000.00
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***********公司企业信息
****2025年1至12月政府采购意向-离轴射频偏置磁控溅射 详细情况
| 离轴射频偏置磁控溅射 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年1至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 离轴射频偏置磁控溅射 |
| 预算金额： | 500.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****9900其他电工、电子生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
采购一台离轴射频偏置磁控溅射，用于200 nm及以下尺寸样品的金属、氧化物、氮化物薄膜材料的单层或多层沉积生长。溅射腔本底真空优于5E-7 Pa；磁控溅射源共6个，包含2个离轴溅射源和4个共焦溅射源；样品尺寸兼容2~4英寸。
|
| 预计采购时间： | 2025-02 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
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