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| 磁控溅射镀膜设备 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年1至6月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 磁控溅射镀膜设备 |
| 预算金额: | 350.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A-货物_A****0000-设备_A****0000-机械设备_A****2400-真空获得及应用设备_A****2401-真空获得设备
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| 采购需求概况 : |
用于含锂离子化合物薄膜材料的制备合成,**钴酸锂、锂磷氧氮、锂镧锆氧等。需求功能包括:多靶材共溅射,偏压清洗功能。
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| 预计采购时间: | 2025-01 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写