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双光子灰度刻蚀系统
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8040000.00
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***********公司企业信息
****2025年3月政府采购意向-双光子灰度刻蚀系统 详细情况
| 双光子灰度刻蚀系统 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年3月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 双光子灰度刻蚀系统 |
| 预算金额： | 804.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0309
|
| 采购需求概况 ： |
拟采购的双光子灰度刻蚀系统，主要用于HEPS光源修正入射光束波前误差，实现高相干成像或极限纳米聚焦的功能。其主要指标是可以加工三维立体亚微米器件，加工样品的最大高度不低于20mm，器件可以达到5nm及以下的表面平整度，形状精度Sa优于200nm。配备有光纤对准模组，其对准精度优于500nm(xy) ，共聚焦对准模组，其三维对准精度≤100nm(xy)/≤500nm(z) 。系统采用浸入式激光光刻技术，包含飞秒光纤激光器，其中心波长780nm ± 10nm，平均激光功率 ≥ 250mW，包含的振镜扫描系统具备超高精度的振镜扫描系统，单个有效写场最大直径不小于700μm，最高扫描速度不低于250mm/s，最大行程范围不小于50mm 50mm *20mm。该能量调制的带宽不低于1MHz，调节级数4096级及以上。
|
| 预计采购时间： | 2025-03 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-01-21
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