低损磁控溅射镀膜仪

发布时间: 2025年03月03日
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****2025年4月政府采购意向-低损磁控溅射镀膜仪 详细情况
低损磁控溅射镀膜仪
项目所在采购意向: ****2025年4月政府采购意向
采购单位: ****
采购项目名称: 低损磁控溅射镀膜仪
预算金额: 150.000000万元(人民币)
采购品目:
A****0300电子工业生产设备
采购需求概况 :
低损磁控溅射镀膜仪 基片盘大小:均匀区域300mm*400mm。加热温度:室温-300℃,向下兼容,旋转速度0-30转/分钟可调 低损伤,宽靶面刻蚀,减少靶面打火,阴极冷却主动报警装置,降低阴极烧毁风险,优化阴极冷却系统。 膜厚均匀性:作压强(溅射):0.1~100 Pa,溅射不均匀性≤±5%
预计采购时间: 2025-04
备注:

本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写

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2025-03-03
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