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| 低损磁控溅射镀膜仪 | |
| 项目所在采购意向: | ****2025年4月政府采购意向 |
| 采购单位: | **** |
| 采购项目名称: | 低损磁控溅射镀膜仪 |
| 预算金额: | 150.000000万元(人民币) |
| 采购品目: |
A****0300电子工业生产设备
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| 采购需求概况 : |
低损磁控溅射镀膜仪 基片盘大小:均匀区域300mm*400mm。加热温度:室温-300℃,向下兼容,旋转速度0-30转/分钟可调 低损伤,宽靶面刻蚀,减少靶面打火,阴极冷却主动报警装置,降低阴极烧毁风险,优化阴极冷却系统。 膜厚均匀性:作压强(溅射):0.1~100 Pa,溅射不均匀性≤±5%
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| 预计采购时间: | 2025-04 |
| 备注: | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排,具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写