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8吋化学纯气态高选择性各向同性刻蚀设备
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22400000.00
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***********公司企业信息
****2025年3至12月政府采购意向-8吋化学纯气态高选择性各向同性刻蚀设备 详细情况
| 8吋化学纯气态高选择性各向同性刻蚀设备 | |
| 项目所在采购意向： | ****2025年3至12月政府采购意向 |
| 采购单位： | **** |
| 采购项目名称： | 8吋化学纯气态高选择性各向同性刻蚀设备 |
| 预算金额： | 2240.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A****0300电子工业生产设备
|
| 采购需求概况 ： |
该设备用于垂直GAA、CFET等三维器件结构的高选择性精细化刻蚀，需要选择性刻蚀硅、锗硅、氧化硅、氮化硅材料，刻蚀精度可控制在原子层级，同时满足均匀的刻蚀速率和很好的片内的均匀性和工艺稳定性，从而支撑VGAA器件和CFET器件的研制，保证器件性能。采购数量1台。
|
| 预计采购时间： | 2025-06 |
| 备注： | |
本次公开的****政府采购工作的初步安排，具体采购项目情况以相关采购公告和采购文件为准。标书代写
招标进度跟踪
2025-03-03
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